露光(黄光)制程介绍.ppt

* Page * 微影製程簡介(黃光)Photolithigraphy 2014.04 顏色名 波長 紫 380–450 nm 藍 450–495 nm 綠 495–570 nm 黃 570–590 nm 橙色 590–620 nm 紅 620–750 nm 光阻不被反應 人員作業安全 黃光--最佳作業光源 何謂黃光 可見光波長：電磁波380~780 nm(一般人眼可見光400~700nm) 光阻可被反應範圍：500nm以下(見下頁說明) 可見光範圍 光阻可反應之範圍 380nm 780nm 光阻吸收光譜 以乾膜吸收為例： 乾膜-1 乾膜-2 乾膜-3 安全範圍-450nm 最易感光範圍-310 nm 最易感光範圍-360 nm 最易感光範圍-310、355 nm 安全範圍-470nm 安全範圍-460nm 簡單來說： 光阻於波長500nm以下會產生 反應(Cross- Link) 壓膜 曝光 顯影 蝕刻 流程： 去膜 PET ITO Meterial Metal PET ITO Metal Dry film Light mask 曝光 Dry film 壓膜 曝光 顯影 蝕刻 去膜 Metal Pattern成形 Metal Layer 蝕刻 微影製程(Photolithigraphy) 微影技術：將設計好的圖案從光罩上轉印到材料表面的光阻上時所使用的技術 等於印刷 油墨or可剝 以負型光阻為例 Dry Film製作優勢 細線路呈現： 以印刷製作線路，因印刷易有溢膠現象，導致線路呈現曲折狀；且因網板印刷限 制，線路無法製作Fine Pitch(50um以下)之Pattern。 以Dry Film製作線路，因Dry Film高解析之特性，Fine Pitch之Pattern製作容易呈現 且利用光罩曝光製作線路，可輕易呈現筆直狀態。 印刷製作 Dry film製作 線路曲折 線寬較大(80um) 線路筆直 線寬較細(35um) 光阻(Photo resist)種類介紹 光阻成分：溶劑、樹脂、光活性化合物。 溶劑--可讓光阻保持溶液狀態使光阻可以旋舖方式塗佈在基板上。 樹脂--提供光阻的粘著性、抗蝕刻能力，並可被鹼性顯影液分解。 光活性化合物—對特殊光線具有靈敏性，又稱為感光劑。 光阻種類(依特性)： 正光阻 (曝光處裂解) 負光阻√ (曝光處聚合) 光阻種類(依狀態)： 液態光阻 乾膜√ 正行 正型光阻 負型光阻 Original 曝光 (照光處) 顯影 長鏈(強壯) 短鏈(弱) 裂解 聚合(Cross Link) 曝光處—洗掉光阻 曝光處—光阻留著 光罩/底片 曝光 顯影後 負光阻 紫外線 正光阻 基板 基板 基板 光阻 基板 光阻 正負光阻Pattern說明 正光阻優點：高解析(解析能力3um)、負光阻(乾膜解析約15 um) 負光阻優點：便宜 底片製作說明RD、繪圖必知 底片組成：PET+藥膜 底片製作流程： 快速記憶?PET上正型光阻+曝光+顯影 PET?塗藥膜(正型光阻)?雷射繪片(曝光)?顯影?乾燥 PET 藥膜 底片構造 YLO出圖 正片 負片 For 正型光阻、印刷製程 For 負型光阻(現行黃光製程) 底片發包專用術語RD、繪圖必知 製程 正/負片 解析度(dpi) 藥膜上/下 字正/反 價格(元/張) 印刷 正片 8000 膜上 字正 800 原-黃光 負片 40000 膜下 字正 1800 Layer-1 (細線路) 負片 40000 膜下 字正 1800 Layer-2 (OC) 負片 8000 膜下 字正 800 說明： 1. 正/負片—視光阻型式決定(正型開正片、負型開負片) 2. 解析度—視線路解析決定(50um以下?40000 dpi) (50~150um?25000 dpi) (150um以上?8000 dpi) 3. 藥膜上下—視曝光底片與基材接觸面而定 PET 藥膜 底片構造 乾膜保存期限 乾膜保存期限與儲存溫度關係： 保存時間 (天) 以30℃/90%為例，乾 膜儲存時間僅2.5天 以10℃/90%為例，乾 膜儲存時間可達200天 乾膜保存最佳溫度5~10℃，保存時