退火温度对氧化铬薄膜结构和高温摩擦学性能的影响-摩擦学学报.pdf

第 39 卷     第 2 期 摩  擦  学  学  报 Vol 39   No 2 2019  年 3  月 Tribology Mar, 2019   DOI: 10.16078/j.tribology.2018178 退火温度对氧化铬薄膜结构和高温 摩擦学性能的影响 1 1,2 1,2 1 1* 1 1 刘晓红, 卢小伟 , 何乃如 , 吉  利, 李红轩 , 周惠娣, 陈建敏 (1. 中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室，甘肃 兰州 730000; 2. 中国科学院研究生院，北京 100049) 摘 要: 采用电弧离子镀技术在GH-4169高温合金基体上沉积氧化铬薄膜，并对薄膜进行了不同温度的退火处理， 系统研究了不同退火温度(500、600、700和800 ℃)对薄膜形貌、薄膜结构、薄膜力学性能及薄膜摩擦学性能的影响. 结果表明：随退火温度升高，薄膜表面缺陷减少，氧化铬晶化趋于完善，薄膜硬度下降. 高温摩擦学性能方面薄膜经 500和600 ℃退火后，在环境温度从室温到800 ℃宽温域范围内摩擦系数较退火前均有所增加；经800 ℃退火后的薄 膜在环境温度为400~600 ℃时的摩擦系数均明显下降，但室温摩擦系数明显升高，宽温域内摩擦系数波动较大； 700 ℃退火后薄膜宽温域内摩擦系数在0.21~0.33之间，波动较小. 关键词: 氧化铬薄膜; 退火; 电弧离子镀; 高温; 摩擦学性能 中图分类号: TH 117.3 文献标志码: A 文章编号: 1004-0595(2019)02–0164–07 Influence of Annealing Temperature on Structure and High Temperature Tribological Properties of Chromium oxide Films 1 1,2 1,2 1 1* 1 1 LIU Xiaohong, LU Xiaowei , HE Nairu , JI Li, LI Hongxuan , ZHOU Huidi, CHEN Jianmin (1. State Key Laboratory of Solid Lubrication, Lanzhou Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences, Gansu Lanzhou 730000, China 2. Graduate University