高分子辅助化学溶液沉积法制备涂层导体SrZrO中国有色金属学报.pdf

第 23卷第 1期 中国有色金属学报  2013年 1月  Vol.23 No.1  The Chinese Journal of Nonferrous Metals  Jan. 2013  文章编号：1004­0609(2013)01­0162­06  高分子辅助化学溶液沉积法制备涂层导体  SrZrO (SZO)缓冲层 3 1  1  1  1  2  1  1,3  张 欣  ，王文涛  ，张 勇  ，张 敏  ，张 酣  ，雷 鸣  ，赵 勇  (1.  西南交通大学 超导与新能源研究开发中心 材料先进技术教育部重点实验室，成都  610031；  2.  北京大学 物理系，北京  100871；3.  新南威尔士大学 材料科学与工程学院，澳大利亚 悉尼 2052)  摘 要：采 用高分子辅助的化学溶液沉积法， 通过720~800 ℃之间进行烧结成相， 分别在氩气和空气中 SrTiO (STO)  3  单晶基底上沉积得到织构良好的 SrZrO (SZO)外延薄膜，重点研究不同热处理气氛对 SZO 薄膜织构和表面微结 3  构的影响。结果表明：氩气中制得的 SZO 外延薄膜 c 轴取向较好，且表面更加平整致密；氩气中 770  ℃制备的  SZO薄膜厚度超过 230 nm。而空气中制得的 SZO薄膜表面呈现局部团聚和开裂。在氩气中采用高分子辅助的化 学溶液沉积法有利于制备出低成本、高性能的涂层导体用单一 SZO缓冲层。 关键词：涂层导体；SrZrO 缓冲层；化学溶液沉积法；织构 3  +  中图分类号：TB33;TB34;O511 .3  文献标志码：A  Preparation of SrZrO (SZO) buffer layer for coated conductors by  3  polymer­assisted chemical solution deposition method  1  1  1  1  2  1  1, 3  ZHANG Xin ,WANG Wen­tao , ZHANG Yong , ZHANG Min ,ZHANG Han , LEI Ming ,ZHAO Yong  (1.Key Laboratory of Magnetic Levitation