Q_LW001-2019LMEC 300磁存储器刻蚀机.pdf

1 | P a g e 江苏鲁汶仪器有限公司企业标准 Q/LW001-2019 LMEC 300 磁存储器刻蚀机 2019-06-04 发布 2019-06-13 实施 江苏鲁汶仪器有限公司 2 | P a g e 江苏鲁汶仪有限公司 发 布 江苏鲁汶仪器有限公司 3 | P a g e 前言 R 本技术条件依据SEMI○ 《Semiconductor Equipment and Materials International》、国外行业检测标准及该设备研发实际情况制定。 本技术主要起草人：胡冬冬 徐康宁 琚里 朱磊 Mihail Baklanov Kanstatin 技术条件批准人：许开东 江苏鲁汶仪器有限公司 4 | P a g e 磁存储器刻蚀机 1 执行标准 江苏鲁汶仪器有限公司内部制定标准 2 产品名称 磁存储器刻蚀机 （LMEC 300） 3 基本参数 设备配置和技术参数 序号 设备名称 主要技术参数 ICP 模块 1）技术指标：  极限真空：10-3 mTorr  工作真空：1~100 mTorr  载台温度：-20℃~80℃可调  装片量：单ICP 腔室每次可以装载200mm 基片1 片  SiO2 刻蚀  Ru 刻蚀  磁性多层膜刻蚀 ICP 模块系统组成： 1）真空系统  分子泵;抽速：≥1600L/s;  干泵;抽速：100m3/h;  集成调压阀，口径：200mm 1 ICP 模块 2 ）腔体  材质Al 6061 ，腔体表面硬质阳极化处理；先锋半导体公 司制造加工  0.1Torr 专用工艺规  终点监测系统 3 ）下电极及Chiller  下电极载片台可以实现单片200mm 基片刻蚀工作，  载片台温度采用Chiller 水机控制，可调节范围：- 20℃~80℃