科技大厦基坑施工组织设计.docVIP

武汉市科技大厦基坑支护工程 施 工 组 织 设 计 中南勘察基础工程总公司 二OO一年十月十日 武汉市科技大厦基坑支护施工组织设计 1、工程概况及特点 1工程概况： 拟建科技大厦位于汉口发展大道与常青路交汇处的东南角，设计地下室一层，基坑深度6.00-6.60m，采用框架结构，总建筑面积46100m2，该大厦建筑由华中理工大学建筑设计院设计，勘察资料由武汉市勘测设计研究院和机械工业部第三勘察研究院提供。该楼的±0.000绝对标高为22.00m，目前自然地面标高为21.2m左右，楼基础为静压桩形式，桩顶设计标高15.65～16.25m，承台底标高在14.7～15.3m处。 该拟建楼北侧为发展大道，距基坑承台外缘5m左右，有地下通信电缆，高压水管等设施，其埋深约2m及0.5m，东、南侧附近各有12层建筑物，距离基坑边缘约12m，东南角较为空旷场地被总包方作为料场，建筑物的西侧为常青路。 1.2本基坑工程特点 本场地为长江、汉江冲洪积地貌单元，为中软场地，自上而下分为杂填土层、粉质粘土层、粘土层、粉质粘土夹粉土层等；场地地下水可分为上层滞水和承压水，上层滞水赋存于杂填土及浅部的粘性土层中，由大气降水及生活排汇水补给，承压水赋存于3-1层及其下的砂层中，与长江水存在水力联系，场地综合稳定水位埋深0.5-1.0m，根据勘察资料，地下水对砼不具有侵蚀性。 由于武汉地区属于我国