掺纳米粒子的光致聚合物复合材料全息存储特性研究.pptVIP

* * * * * * * * * * * * 六种不同掺杂纳米氧化硅浓度的最大透过率随时间的动态变化如图所示，六条曲线的变化趋势基本一样，都是在初始阶段单调增大，增大到一定值后趋于稳定，继续延长曝光时间透过率又出现减小。影响透过率的主要因素是样品中多功能单体BAA及纳米颗粒对光的散射。在相同的纳米氧化硅掺杂浓度下，透过率随着曝光时间的增加先急剧增大，然后缓慢减小。这种现象可以解释为：首先，在光照初始阶段，染料吸收光后与引发剂发生反应形成大量的自由基，引发单体聚合，染料被漂白，透过率急剧增加；随着单体的不断消耗，自由基处于饱和状态，染料完全被漂白，厚膜的透射光强不再发生大的变化，随着曝光量继续的增加，由于样品中含有的多功能单体BAA是一种溶解度小极易析出的介质，其颗粒会形成散射中心，当光照射到上面时散射光与入射光就会发生相互作用形成噪声光栅，散射光与入射光形成的噪声光栅对入射光的散射越大。 掺杂浓度越大，纳米粒子团聚越厉害 ，形成更多的散射中心，散射光强增大，越易形成噪声光栅，散射损失越大。 * 用参物光总光强分别为5mW/cm2 、8mW/cm2和10mW/cm2，13mW/cm2的曝光强度对六种样品进行了曝光测试，得到了曝光强度对材料曝光特性的影响，结果如图所示。 图中显示，在曝光强度为10mW/cm2时，各样品所能达到的衍射效率最大。 在低的曝光强度下5mW/cm2，各样品达到的衍射效率比较小，曝光强度升高到8mW/cm2时衍射效率提高较少，而从8mW/cm2时升高到10mW/cm2时，衍射效率明显的增大。这种现象可以解释为，曝光强度不但要使单体聚合，而且要消耗在对氧阻聚作用的抵消上，当曝光强度首先达到一定值能起到够补偿氧阻聚作用时，饱和衍射效率才能够提高。 * 上图为六种样品的布拉格偏移角与归一化衍射效率的关系图，内部的小图归纳了个浓度下布拉格偏移角的具体情况。从图中可以看出随着这氧化硅浓度的增大布拉格偏移角先减小，然后增大趋于一个稳定值，氧化硅浓度继续增大，布拉格偏移又增大到一定值。 当在材料中加入适量的无机纳米氧化硅粒子，纳米氧化硅就可以均匀的分散到活性长链中，由于其粒子本身的硬度，在聚合物长链中充当了支撑的作用，使材料在曝光过程中不易发生形变，从而布拉格偏移减小。 * * 每个样品的衍射效率和折射率调制度的变化趋势基本一致，都是先随曝光时间的增加而单调增大，在某一时刻达到稳定，这种随曝光时间的延长而增大的现象正是光致聚合物中全息光栅的形成过程。即在曝光开始的一段时间内, 参考光和物光在样品内部形成了干涉花样，单体从相干区域的暗条纹处向亮条纹处扩散，纳米粒子从相干区域的亮条纹处向暗条纹处的扩散，光栅不断生长，由此折射率调制度随曝光时间的延长而增大，衍射效率会随折射率的增大而增大，这时折射率调制度的增大量与参与聚合的单体转化率基本成正比。随着单体转化成聚合物的量增大，自由单体浓度越来越少，样品中存在于亮暗条纹调制区域的折射率调制度相应的达到饱和，此时再增大曝光量，衍射效率也不会出现上升的情况。此外，从图中可见衍射效率与折射率调制度达到饱和后趋于稳定，并没有明显的下降，这说明我们制备的样品中记录的全息光栅的状态比较稳定，没有出现过调制现象，也没有出现明显的噪声光栅。 * 从图中可以明显的看出，最大衍射效率与纳米氧化硅含量的关系曲线的变化趋势与折射率调制度与纳米氧化硅含量的关系变化曲线是相一致的。 低浓度掺杂下，衍射效率随浓度正向变化，并存在一个最佳的浓度使得衍射效率达到最大值；掺杂浓度高于最佳浓度并逐渐增大时，衍射效率减小。存在一个最佳浓度使衍射效率最大。 * 样品缩皱率随着氧化硅掺杂浓度的增发先较小后增大，而衍射效率则先增大后减小。这说明材料的缩皱率越大，样品发生的形变就越大，产生的布拉格偏移角就越大，再现光以布拉格角度入射进行再现时，衍射效率会比较低；缩皱率小时则衍射效率会升高。在氧化硅掺杂浓度为3.124wt%时，样品的缩皱率达到最小，为0.14%，而衍射效率达到最大值93%，这与理论是一致的。 * * 经测量得到曝光前聚合物膜层的折射率平均值为1.491.测量曝光后有机/无机纳米复合全息聚合物材料在同一曝光点内的折射率出现了1.46和1.59的不同分布，测量了同一个膜上的约80个点，共测量了5个膜，发现这两个折射率出现的概率基本相同。 图中很容易发现，首先，折射率为1.46和1.59出现的概率最大，分别为41.24%和34.03%，其它数值的折射率出现概率远小于30%。我们已知纳米氧化硅的折射率为1.57，粘结剂PVA为1.49，单体折射率为1.47，因此可以推断，折射率为1.46的区域为单体聚合的区域，折射率为1.59的区域为氧化硅富集区，且这两种成分富集的区域不是同一位置，这恰好证明了，在单体快