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第卷第期影像科学与光化学年月综述光刻胶用底部抗反射涂层研究进展王宽刘敬成刘仁穆启道郑祥飞纪昌炜刘晓亚江南大学化学与材料工程学院江苏无锡苏州瑞红电子化学品有限公司江苏苏州摘要随着微电子工业的蓬勃发展光刻技术向着更高分辨率的方向迈进运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应凹缺效应提高关键尺寸均一性和图案分辨率引起了广大研究者的关注本文简要介绍了光刻胶和光刻技术底部抗反射涂层的分类基本原理刻蚀工艺以及其发展状况重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用
第 卷 第 期 影 像 科 学 与光 化 学
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