原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
集成电路前端材料项目;目录;半导体光刻原理;什么是光刻胶;光刻胶的主要技术参数;光刻胶的组成;光刻胶的分类;集成电路行业主要的光刻胶;化学放大光刻胶（波长：248nm, 193nm）;化学放大光刻胶（续）;中国化学放大光刻胶市场现状和趋势;中国化学放大光刻胶国内供应商分析;低介电常数材料;低介电常数材料的必要性;低介电常数材料的分类和方法;低介电常数材料的理想标准;低介电常数材料列表;低介电常数材料发展现状;22nm低介电常数材料的挑战 (续);低介电常数材料全球形势;低介电常数材料国内发展现状;抗反射涂层材料;抗反射涂层材料的必要性;抗反射涂层材料的分类;抗反射涂层材料的技术难题;抗反射涂层材料的现状;抗反射涂层材料的国内现状;欢迎更多交流
文档评论（0）