磁控溅射工艺简介.pptVIP

  • 25
  • 0
  • 约1.22千字
  • 约 29页
  • 2019-10-01 发布于湖北
  • 举报
磁控溅射镀膜工艺简介 辉光放电: 低压气体中显示辉光的气体放电(空气中的电子大概在1000对/cm3,由于高压放电现象在低气压状态下会产生辉光现象)现象,即是稀薄气体中的自激导电现象。在置有板状电极的玻璃管内充入低压(约几毫米汞柱)气体或蒸气,当两极间电压较高(约1000伏)时,稀薄气体中的残余正离子在电场中加速,有足够的动能轰击阴极,产生二次电子,经簇射过程产生更多的带电粒子,使气体导电。辉光放电的特征是电流强度较小(约几毫安),温度不高,故电管内有特殊的亮区和暗区,呈现瑰丽的发光现象。 等离子体: 将气体加热,当其原子达到几千甚至上万摄氏度时,电子就会被原子“甩”掉,原子变成只带正电荷的离子。此时,电子和离子带的电荷相反,但数量相等,这种状态称做等离子态 。大家常见的霓虹灯,在它点亮以 后,灯管里的气体就被电离了,成为电子与离子的混合物——等离子体。极光,是我们看见的大自然里的等离子体。 Sputter溅镀定义: 在一相对稳定真空状态下,阴阳极间产生辉光放电,极间气体分子被离子化而产生带电电荷,其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上之靶材,将其原子等粒子溅出,此溅出之原子则沉积于阳极之基板上而形成薄膜,此物理现象即称溅镀。而透过激发、解离、离子化……等反应面产生的分子、原子、受激态物质、电子、正负离子、自由基、UV光(紫外光)、可见光…

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档