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- 2019-10-12 发布于湖北
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15、量子点激光器(QD-LD) 16、有机半导体激光器(OLD) 17、半导体激光放大器(SLA) 18、APD光电探测器 32、PIN光电探测器 19、蓝宝石衬底图形技术(PSS) 20、集成电光调制器 21、湿法刻蚀技术 22、激光刻蚀技术 23、软光刻技术 24、全息光刻技术 25、 CCD成像技术 26、薄膜溅射工艺技术 27、PECVD工艺技术 28、离子束光刻技术 29、极紫外(EUV)光刻技术 30、量子线激光器 31、有机发光二极管(OLED) 33、GaAs工艺技术 34、硅双极型工艺技术 35、双极-CMOS兼容工艺技术(BiCMOS) 36、SCALPEL电子束光刻技术(限角投影散射式,步进且扫描) 要求:论文格式应规范,3000字左右(图不计字数),并列出参考文献目录,其中必须至少有1篇相关英文参考文献,正规参考文献不少于3篇。必须自己撰写,文字部分15分,抄袭/COPY比例超过10%计为O分,ppt演讲10分。 要求论述全面、重点突出、思路清晰、表述流畅、准备充分。 第二章 激光谐波技术 2.1 非线性光学效应 2.2 激光倍频与相位匹配技术 2.3 激光参量放大与振荡 讨论: △k=0 倍频信号最强 Dk = k2 - ( k1 + k1 ) =0 (相位匹配条件) π -π 2π -2π -3π 3π △k
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