取向硅钢-渗氮脱碳工艺综述.docVIP

先脱碳后渗氮工艺 主要技术问题：氧化膜各成分及其含量控制，主要通过控制脱碳气氛来调节。氧化膜影响脱碳效率、后续渗氮过程及底层质量。 难点：氧化膜成分的精确控制 脱碳 1.气氛对于氧化膜成分影响分析 分压比：即PH2O/PH2，代表氧化性强弱。分压比影响氧化膜成分及含量 SiO2：氧化膜中的主要成分，Si与水蒸气反应生成，内氧化膜的内层，在后续高温退火升温阶段与隔离剂中的MgO生成硅酸镁底层，PH2O/PH2=0.15左右时就会形成SiO2内氧化层，＜0.03时，会形成致密非晶质外氧化层SiO2，不利； FeSiO4：当PH2O/PH2=0.15-0.6时，会形成外层为Fe2SiO4，内层为SiO2的内氧化层，在此条件下可顺利进行脱碳。在此范围内，增加露点时，Fe2SiO4会增多，SiO2会减少，Fe2SiO4在此范围内为较疏松形成区，有利于脱碳顺利进行。 Fe2SiO4作用：1）在高温退火温度升至850-950℃低温区，Fe2SiO4先与MgO反应生成一部分Mg2SiO4，防止发生过氧化，并保持表层抑制力；2）Fe2SiO4也对MgO+SiO2反应起到触媒作用，使Mg2SiO4底层形成的温度降低，避免由于温度高而使抑制剂过早熟化分解。3）Fe2SiO4内氧化层比较疏松，易于脱碳；4）影响底层质量 但Fe2SiO4的量需要控制在合适的范围里，因为Fe2Si