光刻技术历史与发展课件.docVIP

  • 5
  • 0
  • 约9.41千字
  • 约 12页
  • 2019-10-20 发布于湖北
  • 举报
编号 河南大学 2010 届本科毕业论文 光刻技术历史与发展 姓 名: 作者学号: 1003618023 所在学院:所学专业:电子信息科学 与技术 导师姓名: 导师职称:讲师 - 1 - 摘要 光刻工艺是集成电路最重要的加工工艺,他起到的作用 如题金工车间中车床的作用,光 刻机如同金属加工工车间的车床。 在整个芯片制造工艺中, 几乎每个工艺的实施, 都离不开 光刻的技束。光刻也是制造 IC 的最关键技术,他占芯片制造成本的 35%以上。在如今的科 技与社会发展中, 光刻已经每年以百分之三十五的速度增长, 他的增长, 直接关系到大型计 算机的运作等高科技领域,现在大型计算机的每个芯片上可以大约有 10 亿个零件。这就需 要很高的光刻技术。 如今各个大国都在积极的发展光科技束。 光刻技术与我们的生活息息相 关,我们用的手机,电脑等各种各样的电子产品,里面的芯片制作离不开光科技束。 在我们的日常生活中, 也需要用到光刻技术制造的各种各样的芯片, 最普通的就是我们手 里的手机和电脑。 如今是一个信息社会, 在这个社会中各种各样的信息流在世界流动。 而光 刻技术是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。 本论文的作用是向大家普及光刻的发展历史和光刻的发展方向,以及光刻的种类,每种 光刻种类的优点和缺点。 并且向大家讲述光刻的发展前景。 在光刻这一方面, 我国的专利意 识稀薄,很多

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档