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- 2019-10-26 发布于广东
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常用半导体中英对照表
离子注入机? ion implanter
LSS理论? Lindhand Scharff and Schiott theory,又称“林汉德-斯卡夫-斯高特理论”。
沟道效应? channeling effect
射程分布? range distribution
深度分布? depth distribution
投影射程? projected range
阻止距离? stopping distance
阻止本领? stopping power
标准阻止截面? standard stopping cross section
退火? annealing
激活能? activation energy
等温退火? isothermal annealing
激光退火? laser annealing
应力感生缺陷? stress-induced defect
择优取向? preferred orientation
制版工艺? mask-making technology
图形畸变? pattern distortion
初缩? first minification
精缩? final minification
母版? master mask
铬版? chromium plate
干版? dry plate
乳胶版? emulsion plate
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