常用半导体中英对照表.docxVIP

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  • 2019-10-26 发布于广东
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常用半导体中英对照表 离子注入机? ion implanter LSS理论? Lindhand Scharff and Schiott theory,又称“林汉德-斯卡夫-斯高特理论”。 沟道效应? channeling effect 射程分布? range distribution 深度分布? depth distribution 投影射程? projected range 阻止距离? stopping distance 阻止本领? stopping power 标准阻止截面? standard stopping cross section 退火? annealing 激活能? activation energy 等温退火? isothermal annealing 激光退火? laser annealing 应力感生缺陷? stress-induced defect 择优取向? preferred orientation 制版工艺? mask-making technology 图形畸变? pattern distortion 初缩? first minification 精缩? final minification 母版? master mask 铬版? chromium plate 干版? dry plate 乳胶版? emulsion plate 透明版? see-thr

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