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- 2019-11-08 发布于江苏
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杨氏双缝干涉实验装置; S线光源,G是一个遮光屏,其上有两条与S平行的狭缝S1、S2,且与S等距离,因此S1、S2 是相干光源,且相位相同;S1、S2 之间的距离是d ,到屏的距离是D。;考察屏上某点P处的强度分布。由于S1、S2 对称设置,且大小相等,认为由S1、S2 发出的两光波在P点的光强度相等,即I1=I2=I0,则P点的干涉条纹分布为;P点光强有最大值,;即光程差等于波长的整数倍时,P点有光强最大值;P(x,y,D);实际情况中,;干涉条纹强度分布曲线;相邻两个亮条纹或暗条纹间的距离为条纹间距;m=0,1,2,…依次称为零级、第一级、第二级亮纹等等。零级亮纹(中央亮纹)在x=0处。; 干涉条纹在屏上的位置(级次)完全由光程差决定,当某一参量引起光程差的改变,则相应的干涉条纹就会发生移动。;干涉条纹的特点;;①光源S位置改变:
S下移时,零级明纹上移,干涉条纹整体向上平移;
S上移时,干涉条纹整体向下平移,条纹间距不变。;②双缝间距d改变:
当d增大时,e减小,零级明纹中心位置不变,条纹变密。
当d 减小时,e增大,条纹变稀疏。;③双缝与屏幕间距D改变:
当D 减小时,e减小,零级明纹中心位置不变,条纹变密。
当D 增大时,e增大,条纹变稀疏。;;(2)介质对干涉条纹的影响;②若把整个实验装置置于折射率为n的介质中
明条纹: =n(r2-r1)=±
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