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《中国材料工程大典·材料表面工程卷》出版 中国表面工程2006位 3结论 (1)镀层厚度在0.9～2.1m范围内变化,受靶 基距影响明显.随靶基径向距增大厚度显着减小, 减小趋势逐渐变缓;随靶基轴向距增大厚度先增后 减,在中心区域基本不变.靶基径向距对镀层厚度 的影响明显强于靶基轴向距. (2)镀层厚度均匀性随靶基径向距增大而逐渐改 善,在靶基轴向距的中心区域有好的镀层均匀性. (3)UDP450设备能够处理直径180iilln,高度100 IIlin以内的较大尺寸工件并保证镀层厚度均匀. (4)真空室内的磁场分布和粒子迁移中的散射 碰撞是导致靶基距影响镀层厚度及其均匀性的主要 原因. 参考文献: [1】HiroshiFujiyama,KiyoshiKuwahara.Magnetron plasmasforlarge-areauniformsputtering[JJ.Surface andCoatingsTechnology,1995,74?75:75-79+ [2】ReinerKukla.Magne~onsputteringonlargescale substrates:anoverviewonthestateofthea九[J】_Surface andCoatingsTechnology,1997,93:1-6. f3]3徐均琪,易红伟,等.磁控溅射膜厚均匀性与靶.基距 关系的研究『J].真空,2004,41(2):25-28. [4】惠迎雪,等.不同磁控溅射模式膜厚均匀性研究[J]. 西安工业学院,2003,23(1):32.36. [5】徐均琪,杭凌侠,蔡长龙.磁控溅射离子束流密度的 研究[J】.真空科学与技术,2004,24(1):74-76. [6]宋建全,刘正堂,等.平面磁控溅射薄膜厚度分布模 拟[J】.机械科学与技术,200L20(6):884?885. [7】VankaSP,LuoG,GlumacNG.Parametriceffectson thinfilmgrowthanduniformityinanatmospheric pressureimpingingjetCVDreactor[J】.Journalof CrystalGrowth.2004f267)22—34. [8]韩雷刚.多工位平面磁控溅射镀膜装置及膜厚分布均 匀性研究[D】+成都:电子科技大学,2004. 作者地址:西安市金花南路5号710048 西安理工大学材料学院 Tel:(029)8231259213571998794 E-mail:denglch@163+com - 书讯? (lt;中国材料工程抖亡j陛卷》出版 《材料表面工程是中国材料工程大典gt;)中的第16 卷,第17卷,已由化学工业出版社出版. 材料表面工程是反映当代表面工程技术水平的大型 综合性工具书,内容由三个部分组成.①表面工程基础 知识:阐述了表面工程的内涵,功能,分类,发展历程, 材料服役中的表面失效及防治,表面覆层的界面结合机 理;②表面工程技术:介绍了涂装,热喷涂,堆焊,电 镀,电刷镀,化学镀,转化膜技术,化学热处理,热浸镀, 物理化学气相沉积,高能束表面处理,纳米表面工程,材 料的封存与包装等常用表面工程技术的基本原理,适用场 合,工艺选择,材料选用原则,质量检测与控制,安全防 护等内容;③表面工程技术综合运用:介绍了单一表面 工程技术和复合表面工程技术的选用原则,不同服役工况 下的涂覆材料设计及表面工程技术经济分析. 材料表面工程gt;)由徐滨士院士,刘世参教授任主编, 并邀请了国内外20位专家撰稿,书中内容以作者们近期 的研究成果为主,同时汇集了国内外表面工程技术新进 展.全书着力为现代企业正确选材,合理用材,启迪技术 创新服务. 读者对象是具有大专以上文化水平,从事制造,再制 造及维修的工程技术人员.也可供研究人员,理工院校的 有关师生参考.每卷售价130元. 《材料表面工程第16,17卷的目录是:第1篇: 概论主编:徐滨士院士,刘世参教授第2篇:材料服 役中表面的失效行为及防治主编:涂善东教授第3篇: 表面覆层形成与结合机理主编:徐滨士院士,朱绍华教 授第4篇:涂装主编:吴行教授第5篇:热喷涂主 编:徐滨士院士,李长久教授第6篇:堆焊主编:董 祖珏教授第7篇:电镀与电刷镀主编:马世宁教授第 8篇:化学镀与转化膜技术主编:姜晓霞研究员,董首 山研究员第9篇:化学热处理主编:董汉山教授第 10篇:热浸镀主编:邦津f研究员第1l篇:气相沉 积技术及功能薄膜材料制备主编:吕反修教授第12 篇:高能束表面处理技术主编:左铁钏教授第13 篇:纳米表面工程主编:徐滨士院士第14篇:封存 与包装主编:梁志杰高工第15篇:表面工程技术设 计主编:徐滨士院士,朱绍华教授第l