纳米压印技术的发展及分类.pptVIP

纳米压印技术综述 绘梨衣 2018/11/01 纳米压印技术的背景 纳米压印技术的分类 纳米压印技术的现状和发展趋势 纳米压印技术背景 纳米压印的基本原理：通过模板将图形转移到衬底上，转移的媒介一般为聚合物薄膜，通过热压或紫外光固话的方法保留下转移的图形，从而实现微纳结构的制造。 基本工艺流程 Ref. Chou S Y, Krauss P R, Renstrom P J. Imprint of sub‐25 nm vias and trenches in polymers[J]. Applied physics letters, 1995, 67(21): 3114-3116. 纳米压印技术的优势 光学光刻的分辨率受限于 设备体积小 成本相对较低 生产效率高 容易制备高深宽比图案 纳米压印 纳米压印技术的发展历程 热压印 1995, Stephen Chou, et al. 滚筒压印 1998, Stephen Chou , et al. 步进闪光压印 1999, Colburn, Matthew, et al. 三层膜系统 2000, Lebib, A., et al. 逆向纳米压印 2002, LJ Guo, et al. 复合压印 2004, LJ Guo, et al. 气垫加压 2006, Stephen Chou, et al. 晶圆弯曲 2008, Wu, Wei, et al. 气垫加压 Ref. Gao H, Tan H, Zhang W, et al. Air cushion press for excellent uniformity, high yield, and fast nanoimprint across a 100 mm field[J]. Nano Letters, 2006, 6(11): 2438-2441. 晶圆弯曲 Ref. Wu W, Tong W M, Bartman J, et al. Sub-10 nm nanoimprint lithography by wafer bowing[J]. Nano letters, 2008, 8(11): 3865-3869. 纳米压印技术的分类 常见的纳米压印技术有热压印(hot embossing lithography)、紫外压印(UV- nanoimprint lithography)和软刻蚀(soft lithography)三种类型。其中，常见的软刻蚀有微接触印刷(microcontact printing, jnCP )、复制模塑(replica molding，REM)、转移微模塑(microtransfer molding，//TM)、毛细微模塑(micromolding in capillaries,MIMIC)、溶剂辅助微模塑(solvent-assisted micromolding, SAMIM)、热压注塑(embossing and injection)等。 根据固化方法不同，纳米压印可分为热固化、紫外固化以及热-紫外同时固化 三种方式。其中，热固化最大的缺点在于:模板在高温高压下，表面结构或其他热塑性材料会有热膨胀趋势，这将导致转移图形尺寸的误差以及脱模的困难。一般来说，特征尺寸越小，集成度越高，模板与聚合物之间的黏合力越大，使得脱模越困 难。紫外固化时间短，相应压力也较低，可以大大减小晶片变形的几率和程度。同 时，模板的高透明性能够进行高精度对准，特别适合半导体器件和电路制造。 根据图形转移范围不同，纳米压印可分为全晶片(full wafer)压印、步进压印 和滚动压印。其中，步进压印主要有步进快闪式(step and flash imprint lithography，S-FlL)和步进重复(step and repeat)这两种压印工艺;滚动(卷对卷和卷对板)压印工艺适合大规模生产，特别是卷对卷纳米压印工艺，它是一种高效能、 低成本的连续化生产方式，特别适合柔性薄膜压印。 根据压印模板不同，纳米压印可分为硬压印和软压印。其中，硬压印的模板材料主要有石英、硅、氮化硅、金刚石、类金刚石、复合材料等；软压印的模板材料主要有PDMS、PMMA、PET、h-PDMS、PUA、PVA、PVC、PTFE、ETFE等聚合物。 纳米压印技术的研究现状和趋势 纳米压印技术是一种操作简单、图形转移性能好、加工时间短及成本低廉的图形复制方法，采用机械模具微复型的原理来代替传统的光学光刻，降低了对特殊曝光束源、高精度聚焦系统、极短波长透镜系统以及抗蚀剂分辨率受光波场效应的限制和要求。 目前全世界已有5 家纳米压印光刻设备提供商，它们是美国的Molecular Imprint