纳米光纤电传感器.pptVIP

* * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 1.化學溶膠法(chemical colloidal method)：化學溶膠方式合成，可製作複層(multilayered)量子點，過程簡單，且可大量生產。(如圖二所示)2.自組成法(self-assembly method)：以GaAs基材蝕刻窄圓柱式量子點之SEM影像，水平線條約0.5微米(Ref.3) 採用分子束磊晶(molecular-beam epitaxy)或化學氣相沉積(chemical vapor deposition)製程，並利用晶格不匹配(lattice mismatch)的原理，使量子點在特定基材表面自聚生長，可大量生產排列規則的量子點。(如圖三)3.微影蝕刻法(lithography and etching)：以光束或電子束直接在基材上蝕刻製作出所要之圖案，由於相當費時因而無法大量生產。(如圖四)4.分閘法(split-gate approach)：以外加電壓的方式在二維量子井平面上產生二維侷限，可控制閘極(Gate)改變量子點的形狀與大小，適合用於學術研究，無法大量生產。（如圖五） * (a) Spectral behavior of QD600 thin film with temperature (inserted: ??peak as a function of