电子束与离子束加工研究.pptVIP

3、离子注入加工 离子注入是将工件放在离子注入机的真空靶中，在几十至几百千伏的电压下，把所需元素的离子注入工件表面。离子注入工艺比较简单。它不受热力学限制，可以注入任何离子，而且注入量可以精确控制。注入的离子固溶于工件材料中，含量可达10%～40%，注入深度可达1?m甚至更深。 由于离子注入本身是一种非平衡技术，它能在材料表面注入互不相溶的杂质而形成一般冶金工艺所无法制得的一些新的合金。不管基体性能如何，它可在不牺牲材料整体性能的前提下，使其表面性能优化，而且不产生任何显著的尺寸变化。但是，离子注入的局限性在于它是一个直线轰击表面的过程，不适合处理复杂的凹入的表面样品。 除了常规的离子注入工艺之外，近年来又发展了几种新的工艺方法如反冲注入法、轰击扩散镀层法、动态反冲法以及离子束混合法等，从而使得离子注入加工技术的应用更为广泛。 离子注入在半导体方面的应用，目前已很普遍。它是将硼、磷等“杂质”离子注入半导体，从而改变导电型式(P型或N型)，以制造一些通常用热扩散难以获得的各种特殊要求的半导体器件。由于离子注入的浓度、深度和注入区域均可精确控制，所以成为制作半导体器件和大面积集成电路的重要手段。 离子注入表面改性是离子注入加工技术应用的另一个重要领域。离子注入可用以改变金属表面的物理化学性能，可以制得新的合金，从而改善金属表面的耐磨性能