电子束蒸发法工艺对蒸发镀膜设备TiO薄膜折射率影响.pptVIP

法 化学法制备ZnO薄膜的方法 ZnO薄膜的主要性质 ZnO薄膜的器件应用 电子束蒸发法工艺对TiO2薄膜折射率的影响 镀制工艺对TiO2薄膜折射率的影响在蒸发镀制薄膜的过程 中,各种工艺参数都影响着薄膜的折射率。所以选取适当的工艺参数,研究工艺参数对薄膜折射率的影响是必要的。具体工艺参数及薄膜 折射率见表1。 表1 镀膜工艺参数及薄膜折射率 基片温度对薄膜折射率的影响 TiO2薄膜的折射 率范围很宽,为2.2～2.7,可实际上在无离子源辅助蒸发的情况下,折射率会低于2.2。这是由于在用常规热蒸发方法制备的薄 膜存在疏松的柱状结构造成的。而适当的提高基片温度可以使疏松的结构得到一定程度的改善,提高薄膜的结晶度,从而提高膜的折射率 。 基片温度高可以促进失氧的TiO2蒸汽分子与氧分子的反应,从而减少TiO2 的失氧,有助于折射率值的提 高;另外由于水分子在玻璃基板上化学解吸的温度要求较高,高温会促使水分子的解吸,也可以提高折射率。随着基片温度的增加,基片 上原子的迁移率增大,晶格上的缺陷减小,晶粒尺寸增加,膜料分子的聚集程度越大,膜层的聚集密度就会越大,膜的折射率也就越高。 从表1可以看出,折射率最大值出现在基片温度为200℃时,因此适当提高蒸镀时的基片温度,对获得高折射率是很有效果的。 真 空度对薄膜折射率的影响