常用光学薄膜基本设备、基本原理与方式.pptVIP

制造高硬度的机械刀具和耐磨的固体润滑膜，在金属和塑料等制品上镀耐久的装饰膜等。 离子镀的常见类型： 蒸发源：可以是任何一种热蒸发方式。 离化方式：直流辉光放电、高频辉光放电、弧光放电、电子束、热电子型等等。 已形成的实用技术：活化离子镀、空心阴极离子镀和弧源离子镀等。 离子辅助镀 在热蒸发镀膜技术中，增设离子发生器，即离子源，产生离子束，在热蒸发进行的同时，用粒子束轰击正在生长的膜层，形成致密均匀结构（聚集密度接近于1），使膜层的稳定性提高，达到改善膜层的光学和机械性能的目的。 离子辅助的作用 镀前轰击：在镀膜前的0.5~3min，用离子束轰击将要镀膜的零件表面既能清洁待镀膜的表面，又压缩了离子轰击（镀中轰击）时间，更能使离子轰击的作用得到最大程度的发挥。 镀中轰击的作用有以下三个方面： 1）溅射突出岛，消除阴影效应，破坏柱状结构，形成均应填充生长。 2）膜层粒子受轰击而获得高阈值能的能量时，就可以产生级联碰撞，这样增加原子、分子的迁移率，使膜层粒子间紧密结合，有利于形成致密结构。 3）膜层粒子受离子轰击而获得高阈值能的能量时，其晶格振动加剧，形成局部热峰。当多数粒子均因此而形成局部热峰时，将产生明显的淬火效应。 用于离子辅助镀的离子源：利用气体放电产生等离子体，并能从等离子体中引出离子束。 冷阴极辉光放电离子源：冷阴极二次电子发射维持辉光放电。 特点：1）冷阴极工作寿命长，适用于