第7章溅射镀膜.pptVIP

两只靶相对安置，所加磁场和靶表面垂直，且磁场和电场平行。阳极放置在与靶面垂直部位，和磁场一起，起到约束等离子体的作用。 二次电子飞出靶面后，被垂直靶的阴极位降区的电场加速。电子在向阳极运动过程中受磁场作用，作洛伦兹运动。 由于两靶上加有较高的负偏压，部分电子几乎沿直线运动，到对面靶的阴极位降区被减速，然后又被向相反方向加速运动。 加上磁场的作用，电子受磁场作用，作洛伦兹运动。这样由靶产生的二次电子就被有效的封闭在两个靶极之间，形成柱状等离子体。 电子被两个电极来回反射，大大加长了电子运动的路程，增加了和氩气的碰撞电离几率，从而大大提高了两靶间气体的电离化程度，增加了溅射所需氩离子的密度，因而提高了淀积速率。 二次电子除被磁场约束外，还受很强的静电反射作用。把等离子体紧紧地约束在两个靶面之间，避免了高能电子对基板的轰击，使基板温升很小。 对靶可用于溅射磁性靶材，垂直靶面的磁场可以穿过靶材，在两靶间形成柱状的磁封闭。而一般磁控靶的磁场是平行于靶面，易形成磁力线在靶材内短路，失去了“磁控”的作用。 对靶溅射具有速率高、可淀积磁性薄膜等优点。 6. 反应溅射 溅射镀膜时，引入某些活性气体，来改变或控制淀积特性，可获得不同于靶材的新物质薄膜。例如在O2中溅射反应而获得氧化物，在N2和NH3中获得氮化物， 反应物之间产生反应的必要条件是，反应物分子必须有足够高的能量以克服分子间的势垒。