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- 2019-12-15 发布于广东
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TEM的主要发展方向: (1) 高电压:增加电子穿透试样的能力,可观察较厚、较具代表性的试样,现场观察辐射损伤; 减少波长散布像差; 增加分辨率等,目前已有数部 2-3 MeV 的TEM在使用中。图为200 keV TEM之外形。 (2) 高分辨率:最佳解像能力为点与点间 0.18 nm、线与线间0.14nm。美国於1983年成立国家电子显微镜中心,其中1000 keV之原子分辨电子显微镜 AREM, 其点与点间之分辨率达0. 17nm,可直接观察晶体中的原子。 (3) 多功能分析装置:如附加电子能量分析仪 (electron analyzer,EA) 可监定微区域的化学组成。 (4) 场发射电子光源: 具高亮度及契合性,电子束可小至1 nm。除适用于微区域成份分析外,更有潜力发展三度空间全像术(holography)。 7.1 透射电镜的结构及应用 7.1.1 透射电镜的结构 7.1.2 透射电镜成像原理 7.1.1 透射电镜的结构 JEM-2010透射电镜 加速电压200KVLaB6灯丝点分辨率 1.94? EM420透射电子显微镜 加速电压20KV、40KV、60KV、80KV、100KV、120KV晶格分辨率 2.04?点分辨率 3.4?最小电子束直径约2nm倾转角度α=±60度????? ??β=±30度
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