以冷风浓缩设备重复回收光阻剂废液之可行研究演示教学.pptVIP

以冷風濃縮設備重複回收光阻劑廢液之可行性研究 林欣輝摘要 學長的實驗研究以TFT-LCD業未混雜到其他溶劑，而且經過旋轉塗佈製程後，被甩離玻璃基東之剩餘正型光阻劑為研究對象；利用冷風濃縮設備之冷熱排溫度差特性，先以光阻稀釋劑進行冷風濃縮設備較佳操作條件之測試，探討冷風濃縮設備操作條件對於光阻稀釋劑及光阻劑廢液之冷風濃縮效率；進一步透過膜厚預測方程式之運用，預先推測實際塗佈後之膜厚，再與實際塗佈後之膜厚進行比較，完成光阻劑廢液進行重複再生之可行性研究。 第一章 前言 TFT-LCD製程中，使用正型光阻劑於Array製程，共有至少四道光罩之ITO線路顯像製程，所以面東廠的正型光阻劑需求量相當大，根據正型光阻劑在整個材料成本比重之調查資料顯示，正型光阻劑成本比例占面東材料成本約在2%左右 在Array製程階段要達到節省材料持本支出，只有從三個方向著手：(1)減少光罩製程次數；(2)更新塗佈設備光阻塗佈方式；(3)使用再生光阻劑。 TFT-LCD面東Array段製程設備在四代廠以下，均是使用旋轉塗佈方式是將光阻劑均勻塗佈在玻璃基東之上，旋轉塗佈(Spin Coating)的製程原理，是利用旋轉玻璃基東之離心力甩開光阻劑，以達到塗佈之均勻度良好之特性。 依原生光阻劑之製造規格規範，光阻劑之含水率必頇低於0.5％以下，以TFT-LCD製程之特性，在黃光無塵環境對