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Summary 公差分析程序非常灵活,功能强大。在计算公差时,ZEMAX不用任何的近似、外推或估算。因此对常规系统和复杂系统都可以给出很好的结果。 因为公差分析是个复杂的过程,所以ZEMAX也不敢保证完全正确,所以设计者有必要 对结果进行校验。 公差分析练习 打开ZEMAX中的cooke.zmx镜头,分别用二种模式分析其公差。 (1)用Sensitivity模式分析各个曲率半径公差为0.2mm时, RMS Spot Radius的变化范围; (2)用Inverse limit模式分析RMS Spot Radius为8时,各个参数的公差容限值。 公差分析 简单介绍 公差分析是完成光学系统设计之后非常重要的一个步骤。因为没有一个光学零件是完美加工或者一个系统是能完美装配的,公差分析的意义在于保证设计的性能在可接受的前提下,给零件和组装分配可加工可装配的公差,使得纸上的设计可以真实的实现。ZEMAX提供了使用简单,但灵活强大的公差分配和分析能力。ZEMAX提供单个零件的结构参数的公差,包括曲率、厚度、位置、倾斜、偏心、折射率、阿贝数、其他参数的公差;也支持表面或镜头组的偏心、倾斜等的分析 ZEMAX分配公差时,有很多可选择的评价标准,包括RMS点半径、RMS波前差、MTF曲线、标准误差、用户自定义评价函数等等 ZEMAX提供三种分析方式来分析公差,包括灵敏度分析、反灵敏度分析和monte carlo分析。 基本流程 1.先给镜头定义一批适当的公差。默认的公差工具是好的起始点。然后在公差编辑器中定义你需要的其他公差操作数或是修改已有的公差操作数。 2.添加补偿操作数,默认的补偿是后焦距,控制像面的位置。也可以定义其他的补偿操作数 3.选择合适的评价标准,比如RMS点大小、MTF等 4.选择分析模式,灵敏度分析或反灵敏度分析,执行公差分析 5.根据分析结果放松或收紧公差 6.返回执行第4步,直到公差合适,而且评价标准的变化在你接受的范围内。 默认的公差分配工具 左边部分是单个表面的公差分配,右边是元件的公差 表面倾斜公差的分析 表面的偏心和倾斜都会让透镜变得有楔角,使得元件的光轴与机械轴不同心。所以一般不用同时给表面设定偏心和倾斜。而且一个元件是不是需要给两个表面同时指定倾斜公差这个跟元件的基准轴选择有关。而装配时,应该保证元件的基准轴与镜筒的基轴轴重合,它们的不重合度就是单个元件组装时的偏心和倾斜。 灵敏度分析 灵敏度分析常用来查看哪些公差需要被放松,哪些公差需要收紧。进行灵敏度分析时,会把每个公差的最大值或最小值单独的带入系统,其他的参数保持不变,这时计算出这个参量变化后你所选定的评价标准的变化。然后把每个参数变化时,评价标准的变化给出来。让你看到哪些参数的公差对评价标准的影响更严重,指导你有意的收紧哪些参数的公差。 完成所有参数单独的公差计算后,ZEMAX还会给出计算的统计变化,给出评价标准可估计的变化和相应的可估计结果。这个可估计的变化的计算,采用的是RSS算法。现在每个参数使用正公差时的评价标准变化平方后加上使用负公差时评价标准变化的平方,然后求平均值。然后把所有参数的这个平均值加起来求和,开方。 反灵敏度分析 反灵敏度分析有两种:limit和increment。第一种是根据你限定的评价标准所允许的最大值来计算每个参数的公差范围,比如你的评价标准是优化函数,它现在的值是0.5,你允许考虑公差时,它的最差结果是0.7,那么反灵敏分析会计算每个参数的公差范围,保证优化函数不会大于0.7 第一种是根据你限定的评价标准所允许的最大增量来计算每个参数的公差范围,比如你的评价标准是优化函数,它现在的值是0.5,你允许考虑公差时,它的最大增量0.2,那么反灵敏分析会计算每个参数的公差范围,保证优化函数不会大于0.7 Monte carlo分析 蒙特卡罗分析是考虑所有公差同时存在时,评估系统性能的一种方法。每一次计算分析时,所有参数的公差同时随机的扰动,计算出性能的变化。这种计算重复很多次(每次都是独立的),每次计算参数都有不同的一系列随机误差,这样就能模拟大批量生产时,你的设计的性能变化。 蒙特卡罗分析的计算次数肯定是越多越准确,但是越慢。 蒙特卡罗分析时,有四种统计方式来统计评价标准的变化。这四种统计方式是:正态分布、均匀分布、抛物线分布和用户自定义分布。 灵敏度分析: 反灵敏度分析: 反灵敏
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