《表面工程学（第2版）》第10章气相沉积技术.ppt

聚四氟乙烯薄膜的润滑特性不受环境湿度的影响，可长期在大气环境中使用，是一种很有发展前途的固体润滑剂。其使用温度上限为50℃，低于-260℃时才失去润滑性。 长时间放置后性能变化不大，是较为理想的固体润滑剂。 溅射法制取聚四氟乙烯膜 英国Teer涂层公司（1） 磁控溅射沉积设备 靶 车间 Teer合资公司：浙江汇锦梯尔公司 英国Teer涂层公司（2） 各种类型的涂层 在镀膜室内引入等离子体，克服了沉积粒子能量低、膜层结合力不高和沉积速率低等缺点。 三、 离子镀膜 1 离子镀膜原理 在真空条件下，气体放电使气体和被蒸发物质的粒子部分电离，离子轰击基材表面的同时，蒸发物质或其反应物被沉积在基材的表面上。 实现离子镀的两个必要条件： （1）有一个气体放电的空间； （2）镀料原子进入放电空间部分离化。 粒子在空间运动过程中相互碰撞，有利于提高膜的均镀能力。 离子镀膜原理（2） 相对于其它PVD技术，离子镀沉积的粒子能量高。 高能离子在电场作用下高速轰击基片表面，净化了基片表面，提高了膜的结合强度； 使膜表面始终处于活化状态，有利于膜的沉积和生长； (1) 热阴极离子镀 1）热阴极：用钽丝制成，用于发射热电子。 2）高压直流电电源：热电子被加速射向阳极（坩埚），热电子运动过程中与氩原子碰撞电离，产生高密度的等离子体。 2 常用离子镀膜方法 热阴极离子镀特点与用途 高浓度电子束的轰击清洗和电子碰撞离化效果好，镀层质量非常高。 镀膜区域相对较小，主要用于工具镀。 空心阴极效应：当气体辉光放电中两个阴极之间距离小于2倍的阴极辉光放电区的厚度时，电子在两个阴极辉光放电区之间来回振荡，增加了电子和气体分子的碰撞几率，引起更多的气体激发和电离，使电流密度和辉光强度剧增。 管状空心阴极放电满足下面的共振条件时，可获得最大的空心阴极效应 2df = Ve 式中，d－圆管内径；f－电子在空心阴极间的振荡频率；Ve－电子通过等效阴极被加速获得的速度。 （2）空心阴极离子镀（HCD） 空心阴极离子镀装置示意图 离化率可达20％～40％，比其他离子镀方法高100倍，因而提高了膜层的附着力和致密度。可获得高质量的镀层。 HCD离子镀工作气压比较高（1.33～0.133Pa），金属原子的离化率比较高，因此具有较好的绕镀性。 HCD电子枪采用低电压大电流，操作安全、容易推广。 HCD离子镀已广泛应用于装饰、刀具、模具等硬质涂层。 空心阴极离子镀的特点 利用真空弧光放电作为蒸发源，镀膜室内设有一个或多个由镀膜材料制成的弧靶，弧靶接阴极并用水冷却构成冷阴极。 （3）冷阴极多弧离子镀 多弧放电蒸发源是在70年代由前苏联发展起来的。 美国在1980年从苏联引进这种技术，成立多弧公司。 国内最早生产多弧离子镀设备的是北京钛金公司。 目前国内外生产用的PVD镀膜装置大多数为多弧离子镀。 多弧离子镀的发展 粒子的离化率高达60～80％，具有几十eV的能量。 膜层均匀致密，结合牢固，沉积速率高（～几百nm/s）。 镀膜室内可安装数个到十几个弧靶，镀膜面积大。 可采用磁过滤系统可以将尺寸比较大的粒子过滤掉。 多弧离子镀特点 多弧离子镀应用 * * 通过气相反应成核，在固体表面制备各种类型、功能和用途的固态薄膜，膜的厚度在亚微米至数十微米。 第十章 气相沉积技术 1952年联邦德国金属公司的冶金实验室惊奇地发现在1000℃下，在铸铁表面也能得到粘结很好的TiC镀层。 从1954年起，他们又在工模具表面也得到了致密、光滑、粘结力良好的TiC镀层，井随之取得了联邦德国、美国、法国、瑞典及日本等国的专利。 1 真空和真空区域的划分 真空状态下气体的稀薄程度叫真空度，单位为牛顿/米2（N/m2），简称帕(Pa)。工程上曾用托(Torr)，1托＝1毫米汞柱(mmHg)＝1/760标准大气压＝133.3帕。 真空一般可大致分为五个区域。 一、真空的基本知识 （1）旋片式真空泵：用于低真空区域，极限真空度约1Pa。 2 真空的获得 (2) 用于高真空区域，极限真空为10－7Pa或更高。 油扩散泵不能单独使用，必须和前级泵串联使用。 排除了空气的不良影响，可防止金属氧化。 在处理过程中可减少气体、杂质污染，提供清洁条件。 减少气体分子之间的碰撞次数。 真空的绝热性强。 可降低物质的沸点或气化点。 3 真空的特点和应用 气相沉积分类 （1）物理气相沉积（PVD）：利用纯物理手段