高纯硅的制备.docxVIP

晶硅分别介绍上述三种方法制备高纯硅的化学原理。三氯氢硅的 晶硅 分别介绍上述三种方法制备高纯硅的化学原理。 三氯氢硅的合成 总反应式： 高纯硅的制备一般首先由 硅石（SiO2）制得工业硅（粗硅），再制成高纯的 多晶硅，最后 拉制成 半 导 体 材 料硅单晶。 工业上是用 硅石（SiO2）和 焦炭以一定比例混合，在 电炉中加热至1600~1800℃而 制得纯度为95%~99%的粗硅，其反应如下：SiO2+2C=Si+2CO 粗硅中一般含有铁、铝、碳、硼、磷、铜等杂质，这些杂质多以硅化构成 硅酸盐的形式存 在，为了进一步提高工业粗硅的纯度，可采用酸浸洗法，使杂质大部分溶解（有少数的 碳 化硅不溶）。其生产工艺过程是：将粗 硅粉碎后，依次用盐酸、 王水、（HF+H2SO4）混合 酸处理，最后用 蒸馏水洗至中性，烘干后可得含量为99.9%的工业粗硅。 高纯 多晶硅的制备方法很多，据布完全统计有十几种，但所有的方法都是从工业硅 （或称 硅铁，因为含铁较多）开始，首先制取既易提纯又易分解（即还原）的含硅的中间 化合物如 SiCl4、SiHCl3、SiH4等，再使这些中间化合物提纯、分解或还原成高纯度的 多 目前我国制备高纯硅多晶硅主要采用 三 氯 氢 硅氢还原法、 硅 烷热解法和四 氯 化 硅氢还原法。 一般说来，由于 三氯氢硅