光刻专题知识专业知识讲座.pptVIP

本文档所提供的信息仅供参考之用，不能作为科学依据，请勿模仿。文档如有不 当之处，请联系本人或网站删除。 31 光掩膜版和投影掩膜版 4:1 Reticle 投影掩模版 1:1 Mask 本文档所提供的信息仅供参考之用，不能作为科学依据，请勿模仿。文档如有不 当之处，请联系本人或网站删除。 32 掩模版的种类 – 超微粒干版 在玻璃基片上均匀涂敷一层以明胶为分散介质，含有极细感光材料的 乳胶层构成。 价格低，但是耐磨性差，针孔也多。 – 铬版 金属铬膜与玻璃有很强的粘附性，而且铬质地坚硬，耐磨 铬膜光密度大， 0.08 微米相当于 4 微米的乳胶膜 铬的化学稳定性好 – 彩色版（ Fe 2 O 3 氧化铁版） ? 掩模版的大小 – 4” x 4” x 0.060” for 3 -inch wafers – 5” x 5” x 0.060” for 4 -inch wafers 本文档所提供的信息仅供参考之用，不能作为科学依据，请勿模仿。文档如有不 当之处，请联系本人或网站删除。 33 掩模版的制作（ 1 ） 刻图缩微制版技术：从印刷工业中的印刷制版技术移植到微 电子工艺技术中来的。 首先需要根据半导体器件或集成电路电学参数的要求、工艺