中国表面工程ChinaSurfaceEngineerin .pdf

第 21 卷 第 5 期 中 国 表 面 工 程 Vol.21 No.5 第 5 期 马 捷等：CVD 温度对钨沉积层组织性能的影响 21 2008 年 10 月 CHINA SURFACE ENGINEERING October 2008 CVD 温度对钨沉积层组织性能的影响 马 捷，刘玮玮，王从曾，常靖华 （北京工业大学材料科学与工程学院 功能材料教育部重点实验室，北京 100124） 摘 要: 以WF 和H 为反应气体，采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钨涂层。分析研究了沉积温度 6 2 对沉积层组织、结构、表面形貌及涂层致密度、硬度、耐磨性能的影响。试验结果表明：随着温度升高，沉积速率 加快，涂层组织逐渐由柱状晶转变为树枝晶，表面粗糙度显著增加，膜层致密度、硬度下降，耐磨性降低。化学气 相沉积钨的