激光蚀刻原理电子教案.ppt

激光刻蚀原理;目录;激光产生原理;原子结构模型;3.激光产生理论介绍 3-1 激光在产生过程中始终伴随着以下三种状态： a. 受激吸收（简称吸收）：处于较低能级的粒子在受到外界的激发，吸收了能量时，跃迁到 与此能量相对应的较高能级。;c. 受激辐射（激光）: 当频率为=ν（E2-E1）/h的光子入射时，会引发粒子以一定的概率，迅 速地从能级E2跃迁到能级E1，同时辐射一个与外来光子频率、相位、偏振态以及传播方向都 相同的光子。 ;4.晶体腔：工作物质，谐振腔，激发源 工作物质：使受激辐射成为介质中的主导过程，必要条件是在介质中造成离子数反转分布，即使介质激活。例如：掺钕钇铝石榴石（Nd:YAG）YAG激光晶体。 谐振腔：加强介质中的受激辐射，通常由两块与工作介质轴线垂直的平面或凹球面反射镜构成。工作介质实现了粒子数反转后就能产生光放大。谐振腔的作用是选择频率一定、方向一致的光作最优先的放大，把其它频率和方向的光加以抑制。 激发源：要是工作物质成为激活态，需要外界激励作用。一般有光泵式，电激励式，化学式。;处于粒子数反转状态的粒子体系（工作物质）。具有特定频率的光进行放大。激光振荡器中工作物质发出的光不是外来的，而是工作物质本身自发跃迁而产生的，即自发辐射（非受激辐射）。由于自发辐射没有确定的频率及传播方向，且杂乱无章。为使自发辐射频率单一性，就需要有一装置来实现，即光学谐振腔。 要解决自发辐射，使其呈单一性的方法是只有在工作物质的两侧放置两块反射镜。而且两块反射镜必须彼此平行，并与工作物质的光轴垂直（见图24）。两个反射镜中，一个是全反射镜，反射有效率为99.8％，一个是半反射镜。反射率为40％～60％。谐振腔即指两块反射镜构成的空间。在谐振腔中，初始的光辐射是来自自发辐射，即处于高能级上粒子自发辐射光子跃迁到低能级。由于这类辐射出来的光子初相位无规律地向四面八方射出。这种光不是激光。而是像点烯的一个火种——尤如生炉子点火一样。 ;自发辐射光子不断产生，同时射向工作物质，再激发工作物质产生很多新光子（受激辐射）。光??在传播中一部分射到反射镜上，另一部分则通过侧面的透明物质跑掉。光在反射镜的作用下又回到工作物质中，再激发高能级上的粒子向低能级跃迁，而产生新的光子。在这些光子中，不在沿谐振腔轴方向运动的光子。就不与腔内的物质作用。沿轴方向运动的光子，经过谐振腔中的两个反射镜多次反射，使受激辐射的强度越来越强。促使高能级上的粒子不断地发出光来。如果光放大到超过光损耗时（衍射、吸收、散射等损失）产生光的振荡，使积累在沿轴方向的光，从部分反射镜中射出这就形成激光。 在谐振腔的反馈过程中，我们了解到光只能沿谐振腔的轴向传播，因此激光具有很高的方向性。又由于谐振腔中两个反射镜之间距离不同，光在腔内不断地反射，得到加强。而其它波长的光在腔内很快被衰减掉，谐振腔就可以选择一固定波长，说明激光具有单色性。而激光的亮度高是由光放大产生的。 ;;固体工作物质：掺钕钇铝石榴石（Nd：YAG）；红宝石；钕玻璃； 气体工作物质：CO2分子气体；He-Ne原子气体；氩离子气体； 半导体工作物质：砷化镓;激光器内部机构（P4）;激光器内部分解图（P4）;激光刻蚀原理——以P1为例;通过对激光器在不同功率和速度下所达到的刻蚀效果开展研究, 探索激光刻蚀最佳工艺, 并通过测试刻蚀前后玻璃的外观、力学、光学特性变化确定激光刻蚀对玻璃的影响, 进而探讨激光刻蚀技术在IT O 薄膜玻璃中的应用。;激光刻蚀的原理是: 当激光光束聚焦于几十个微米的目标物上时, 光电或者光热作用引发一系列的化学 键断裂, 发生的时间顺序随着材料的不同而不同。吸收性能较小的材料需要更多的幅照时间, 在这段时间内材料接收了所传导的热能, 材料受压、熔化, 材料重新固化或者表面材料蒸发, 或者在碳化之前燃烧。对于吸收性能较好的材料, 材料的蒸发或者粒子的烧蚀会在很短的时间内发生。在极端的情形下, 发生了爆炸性的相位改变和形成了蒸发材料的冲击波。激光刻蚀薄膜就是选择一个激光波长, 在这个波长上使被刻蚀的薄膜材料有最大的吸收率, 而薄膜衬底有较大的透过率和反射率。在薄膜厚度一定的情况下, 激光器的工作功率与刻蚀速度是刻蚀薄膜过程中的关键控制参数。;谢谢！