反渗透系统的结垢污染与清洗维护.pdf

反渗透系统的结垢污染与清洗维护 兰州蓝星一姬盯Ec水处理技术公司 杨昆王宇彤 730060 ■鼻：本文系统阐述了反渗透膜组件发生结垢和膜污染的戚目及英特征，对最差 极化、肢体污染、徽生物污染等膜结垢污染形崴，‘以及减轻污染的手段作了说明， 并提出相应的解决方法．对膜组件清洗维护的频率、药荆、时间蓐参数，阻及对其 它反渗透预处理系统的设备的清洗维护，也提供了较详细的建议． 关健词：反渗透，结垢污染原园，膜清洗，预赴理设备维护． 反渗透(RO)水处理技术在我国发展很快，目前已较广泛的应用在医药生产、电子 工业高纯水、饮料用水、化工生产等工业领域，由于国内许多的RO系统大多是由海 德能、陶氏等公司提供的设备组件及设计依据·制造商与用户对设备的使用情况认 识不足．在使用中存在许多阔题．维护清洗工作有特提高。本文将着重阐述R0系统 的影响结垢污染的因素，以及系统的清洗维护操作，以供参考。 l-蔗鳍垢污染的成因与特征 Ro系统日常清洗维护工作具有重要的意义，它对于设备的运转寿命，使用质量 有着直接的关系，特别对膜组件，如何选择清洗药剂的剂型、频率、时闻等参数需 要一定的经验和理论知识，首先需要了解影响成垢与污染的因素。 R0系统要求有一套完善的预处理系统．以确保进膜条件，其包括：杀菌灭藻处 理(加次氯酸钠)、混凝处理、加酸处理、多 介质过滤、加还原剂、活性炭过滤、 加膜阻垢 剂或软化处理、保安过滤等，对于不同水质(如 地表永、地下水、自来水等， 以及考虑其经济 技术成本，预处理配置有所取舍， 以脱除悬浮 物、微生物、活性氧化物、铁、锰等， 即使如 此，膜结垢污染仍然是在所难免的， 预处理只 是将其降低至可控制的范围内， 结垢与水的利 用率有着密切的关系， 对于自来水而言，当永 的利用率30％左右时，可以不考虑结垢问题， 当水的利用率30{6一定要考虑结垢问题． #■“■ m【】矗t匣膏j＆瞄■I什“《B№咐J． scaling)的威因与特征 1．1化学绪垢(Chemical 产生结垢的主要原因是浓差极化现象造成的。 1．11浓差极化现象： 在一定压力下，膜表面与水接触而产生一边界层，由于边界层中的水通过膜进 入另一侧，而盐离子不能通过，导致膜表面盐浓度升高的现象，就叫浓差极化，当成垢 盐的浓度超过其饱和浓度时就会发生结垢，实际上渗透过程发生在含盐浓度很高的边 界层和膜表面之间，这就要用更高的压力才使得反渗透过程继续进行，浓差极化程度 越严重，要达到相同流量，所消耗的能量就越多． 在系统软件设计中，浓差极化趋向程度大小，是由Beta值表示的，一般要求Beta 在1．0—1．8。 1．1．2如何降低浓差极化影响 通常在预处理中采用加酸(ilzS(h)处理、进膜前加软化器或加入阻垢剂。分别降 低碱度、硬度达到降低结垢发生的目的。 1．2胶体污染(Colloidal fouling)的成因与特征 在RO膜表面常会形成一层凝胶层．粘附在膜表面上，就是胶体污染物．SiOz 是天然水体的一种主要杂质．胶体物主要是其水解的硅酸。H2Si04，硅酸里溶解状态 和胶体硅酸，由于硅酸在水中的溶解度很小(25℃溶度积lxl0-11)．随着在边界层中 浓水相胶体硅酸的浓缩，硅酸胶体在水中会水解而生成si(OH)4，并在一定条件下发 生聚合反应。： mSi(OH)4叶(Si02)m十2mH20 生成的若干Si02结合成胶核，其表面的分子未完全脱水而以HaSi04形态存在， Si03 并分级电离，放出H+后形成胶体，其结构式为：(m(Si(h)．n2．2(n—x)H+]2，一2。H+ 胶核带负电，吸附层带正电，扩散层负电大于正电，因而整个胶体呈负电性，胶体物质 难于处理是由于它带有同性电荷不易沉降，而处于稳定状态． 由于进水特别是地下水中，常含有大量的硅酸胶体，前端的过滤处理无法脱除， 胶体污染物的存在一方面增加了溶质的传质阻力，另一方面又有可能形成硅酸盐垢， 是不利因素，应及时通