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四、工艺制程原理 ? 曝光光源形式分为散射光、平行光： 平行光 散光源 Defect 底 片 Defect 干 膜 基 材 四、工艺制程原理 事实上，完全的理想平行光曝光机是不存在的，但我们 经常会用曝光机光源的入射角 θc(Declination Angle) 和 散射角 θα/2(Collimation Angle) 来决定曝光机的性能。 θc θα/2 一般平行光曝光机的定义 : θ c 、 θ α /2≤3 0 ? 曝光光源形式分为散射光、平行光： ? 散射光、平行光，两者优缺点比较： ? ? ? ? 1) ? ? ? ? ? ? × ? ? ? × è ? ? ? 1 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? × ? ? ? ? ¤ ? ? á ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 2 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? × ÷ ? ? × ÷ · ? 2) ? ? ? ? ? í ? ? (>0.15mm) ? § ± ? · ? ? ? ? ? ó ? ? à ? 3) ? à ? ? ? ? ó ? ? ? ? ? ? ? ú ? 3 ? ? ? ? ? ? ? ? à ? × ? ? ? ? ? ÷ ? ? ,? ó ? ó ? ? ? à ? ? ? · ? ? · ? ? ? ? ± ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 10 ° ? ? ? ? ? ? ? ú ? ? × ? § ? ? ? ? ? ? ? ? ? · ? ? ± ? 1) · ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 1 ? ? ? ? ? · ? ? ? ? ? ? ó ? ? ? ? ? à ? × ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 2 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ú ? ? ° ? ? ó ? ? ? ? ? ? ó ? ¨ × ? ? ó ? ? 40 ° ? ? 3 ? ? ? ? ? ? ? ? ± ? ? á ? ? ? ? ? ? × ? ? ? ? § ? ? ? ± ? ? ? ? ? ? ? ? × ? ? ? ? ? ? ? á ? ò ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ¤ ? ? ? ú ? ? ? ? ì ? ? ? · ? ? ± ? ? ? ? ? ? ? ? 四、工艺制程原理 在曝光过程中，干膜的聚合反应并非“一引而发”， 而是大体经过三个阶段： 单 体 消 耗 增 加 曝光时间增加 诱导 区 单体耗 尽 区 单体耗 尽 区 故正确控制曝光时间是得到优良的干膜抗蚀图像的主要因素之一 ? 曝光时间（曝光量）的控制： 四、工艺制程原理 ? 曝光时间的确定： 采用 Ristor 17 格或 SST21 格曝光尺做曝光显像检查，确定曝光时 间。用光密度尺进行曝光时，光密度小的（即较透明的）等级， 干膜接受紫外光能量多，聚合较完全，而光密度大的（即透明程 度差的）等级，干膜接受的紫外光能量少，不发生聚合反应或聚 合不完全，这样选择不同时间进行曝光，可得到不同成像级数， 在显影时被显影掉或只剩下一部分。 四、工艺制程原理 ? 曝光能量的确定： 严格讲，以时间来计量曝光是不科学的。 曝光光能量公式： E=It 式中： E ---- 总的曝光能量， mj/cm 2 I ---- 灯光强度 ， mw/cm 2 t ---- 曝光时间 ， s 从上述可知 , 总曝光能量 E 随灯光强度 I 和时间 t 而变化。若 t 恒定，光强 I 发生变化，总曝光能量 E 也随之改变。而灯 光强度随着电源压力的波动及灯的老化而发生变化，于 是曝光量发生改变，导致干膜在每次曝光时所接受的总 曝光量并不一定相同，即聚合程度亦不相同。为使每次 干膜的聚合程度相同应采用曝光能量控