-C3N4新型聚合物光催化材料的研究教程文件.ppt

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C3N4聚合物光催化材料 性能提升的探索;室外空气污染的严重性;制约健康的室内污染;清华大学环境与能源催化实验室;清华大学环境与能源催化实验室;光催化的应用前景;光催化应用于环境净化;内容提要;类石墨相氮化碳(g-C3N4);;纳米结构提高光催化性能;多孔结构提高 C3N4的光催化性能;Fukasawa Y, et al. Chem Asian J, 2011, 6, 103. Park S S, et al. J Mater Chem, 2011, 21, 10801. Jun Y S, et al. Adv Mater, 2009, 21, 4270. Lee E Z, et al. Angew Chem Int Ed, 2010, 49, 9706. Chen X, et al. Chem Mater, 2009, 21, 4093. Groenewolt M,et al. Adv Mater, 2005, 17, 1789.;气泡???板法制备多孔C3N4; 比表面积和孔分布;;多孔g-C3N4的结构和性质;多孔C3N4的降解性能;硫脲加入量越多,光催化降解性能越好 2. 1:4-8可见光降解MB活性是g-C3N4的3.4倍 3. 1:4-8太阳光降解MB活性是g-C3N4的3.0倍 4. 1:4-8脱去部分MB的1个或2个甲基生成中间产物天青B(AB)和天青A(AA);光催化降解苯酚性能;吸附性能及光电流性能;;尿素气泡模板法制备 多孔C3N4的研究;尿素气泡模板法制备 多孔C3N4的研究;单分子层纳米片结构 提高光催化性能 ;Niu P, et al. Adv Funct Mater, 2012, 22, 4763.;g-C3N4单分子层米片的合成;g-C3N4纳米片的形貌;g-C3N4纳米片的厚度;g-C3N4纳米片结构和光谱;;光催化降解性能;光电流的增强效应;光催化性能提高机理;量子点结构 提高光催化性能;方法特点:;g-C3N4;化学剪裁制备g-C3N4量子点;纳米片的厚度2.5nm,大约7层C-N;化学剪裁制备g-C3N4量子点;化学剪裁制备g-C3N4量子点;剪裁机理;C3N4纳米棒结构 提高光催化性能;C3N4纳米棒研究;长度分布在0.5-3 μm,直径在100-150 nm;结晶度提高;2.3倍;等离子核壳结构 提高光催化性能;;Applied Catalysis B: Environmental. 2014, 147, 82-91;活性提高1.8倍 光电流的4倍;h+是主要活性物质;结构和活性稳定 对其它污染物均有高的催化活性;价带调控提高C3N4光催化剂的活性和矿化能力;C60/C3N4复合结构提高光催化性能;C60/C3N4复合结构提高光催化性能;C60/C3N4复合结构提高光催化性能;C60/C3N4复合结构提高光催化性能;C3N4与P3HT复合提升性能;C3N4与P3HT复合提升性能;C3N4与P3HT复合提升性能;C3N4与TCNQ复合提升性能;C3N4与TCNQ复合提升性能;C3N4与TCNQ复合提升性能;*;K离子掺杂提升C3N4的性能;*;;*;C3N4表面杂化提高光催化性能;; C3N4/ZnO杂化催化剂研究; C3N4/ZnO杂化催化剂的制备: 将C3N4分散于于100ml 甲醇溶液中,加入1g 纳米ZnO,超声30min,充分分散后, 搅拌24小时,使吸附反应充分进行。待甲醇自然挥发干后,所??固体于200?C烘12小时,研磨,备用。 ;光催化活性的提高;光电流的提高;光腐蚀的抑制;光腐蚀的抑制;光腐蚀的抑制;杂化结构;表面杂化结构;杂化结构;比表面与孔分布;;紫外EIS拟合;紫外光催化活性提高及光腐蚀抑制机理;可见EIS拟合;可见光催化活性机理;C3N4/BiPO4杂化光催化研究;C3N4表面杂化BiPO4光催化剂的制备;C3N4表面杂化BiPO4结构;杂化结构提高光催化活性;杂化催化剂活性提高机理;C3N4/Bi2WO 6杂化催化剂;C3N4/Bi2WO 6杂化催化剂;DRS;光电协同催化提升C3N4的矿化性能;光电协同催化提升C3N4的矿化性能;典型的吸附控制过程;光电协同催化提升C3N4的矿化性能;*;*;*;光催化方面研究工作;致 谢;感谢各位老师和同学的支持! 谢 谢!

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