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RENA设备与工艺培训 2011-1-9 RENA清洗制绒原理方程 HNO +Si=Sio,+NO T+H2O Sio2+ 4HF=SiF4+2H,O SiF4+2HF=H2ISiFI Si+2KoH+H,O-K,siO3+2H2 NO2+H-O=HNO3+ HNO2 Si+HNO2=Sio2 NO +H2O HNO3 +NO+H,O=HNO2 RENA刻蚀原理方程:3s+4HNO3+18HF3H2S|F6]+4NO2+8H2O SO2+HF—H2[SF6]+H2o RENA设备:内部和表面绒面 RENA运行时的内部状况图 多晶硅片经过制绒后的绒面形貌 注:需要指明的是RENA清洗制绒过程中片子是全部淹没在溶液内的。而在RENA刻蚀过 程中片子是漂浮在溶液上的。 RENA设备:外观 公司一般会根据需要在RENA 在下料台也会安装吸片装置,用以挑 糙拟擦截 下料台用来代替人工手工放片 RENA设备:各部分构件介绍 chillier OKeep process temperature stable ETch bath 口 Rinse1 abath 口 Acidic bath 蚀刻槽(主槽)清洗一槽碱洗槽冲洗二槽酸洗槽 乍流程