DMD芯片显示原理详解(20200802234935).pdf

精品文档 ( 三 )DMD芯片显示原理的介绍 DMD 精 微 反 射 镜 面 是 一 种 整 合 的 微 机 电 上 层 结 构 电 路 单 元 (MEMS superstructure cell) ，它是利用 CMOS SRAM记忆晶胞所制 成。 DMD上层结构的制造是从 完 整 CMOS 内 存 电 路 开 始 ， 再 透 过 光 罩 层 的 使 用 ， 制 造 出 铝 金 属 层 和 硬 化 光 阻 层 (hardened photoresist) 交替的上层结构，铝金属层包括地址电极 (address electrode) 、 绞链 (hinge) 、轭 (yoke) 和反射镜，硬化光阻层则 作为牺牲层 (sacrificial layer) ，用来形成两个空气间 (air gaps) 。铝金属会经过溅镀沉积 (sputter-deposited) 以 及 电 浆 蚀 刻 (plasma-etched) 处 理 ， 牺 牲 层 则 会 经 过 电 浆 去 灰 (plasma-ashed) 处理，以便制造出层间的空气间隙 每个微反射镜都能将光线从两个方向 反射出去，实际反射方向则视底层记忆晶胞的状态而定；当记忆晶胞处于「 ON」状态时，反 射镜会旋转至 +12 度，记忆晶胞处于「 OFF」状态，反射镜会旋转至 -12 度。只要结合 DMD 以及适当光源和投影光学系统，反射镜就会把入射光反射进入或是离开投影镜头的透光孔， 使得「 ON」状态的反射镜看起来非常明亮， 「OFF」状态的反射镜看起来就很黑暗。利用二位 脉冲宽度调变可以得到灰阶效果，如果使用固定式或旋转式彩色滤镜，再搭配一颗或三颗 DMD芯片， 即可得到彩色显示效果。 DMD的输入是由电流代表的电子字符， 输出则是光学字 符，这种光调变或开关技术又称为二位脉冲宽 度调变 (binary pulsewidth modulation) ，它会把 8 位字符送至 DMD的每个数字光开关输入端，产生 28 或 256 个灰阶。 最简单的地 址序列 (address sequence) 是将可供使用的字符时间 (field time) 分成 八个部份， 再从最高有效位 (MSB) 到最低有效位 (LSB) ，依序在每个位时间使 用一个地址序列。当整个光开关数组都被最高位寻址后，再将各个像素致能 ( 重设 ) ，使他 们同时对最高有效位的状态 (1 或 0) 做出反应。 在每个位时间， 下个位会被加载内存数组， 等到这个位时间结束时， 这些像素会被重设， 使它们同时对下个地址位做出反应。 此过程会 不断重复，直到所有的地址位都加载内存。入射光进入光开关后，会被光开关切 换或调变 成为一群光包 (light bundles) ，然后再反射出来，光包时间则是由电子字符的个别位所决 定。对于观察者来说，由于光包时间远小于眼睛的整合响应（ integration ）时间，因此他 们将会看到固定亮度的光线。 ( 四)DMD的工作过程描述 DLP 技术基础是光学半导体、数字微镜芯片（ DMD）由德州仪器公司的 LarryHornbeck 在 1987 年发 明， DMD芯片可以对光进行数字化调制、数字微镜器件包含了 一个由微镜镜面组成的长方形阵列 组成、这个阵列对应与投影图象中的光线、这些镜面和 数字信号、 光源和投影镜头协同工作时，