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影响电镀镀层质量的因素——镀液的性能
镀层种类繁多,同时,沉积某种金属用的镀液也可有不同类型,
因此,各类镀种的镀 液组成千差万别,但较理想的镀液应具有如下
的性能:
(1) 沉积金属离子阴极还原极化较大,以获得晶粒度小、致密,
有良好附着力的镀层。
(2) 稳定且导电性好。
(3) 金属电沉积的速度较大,装载容量也较大。
(4) 成本低,毒性小。
镀液配方千差万别,但一般都是由主盐、导电盐 ( 支持电解质〕、
络合剂和一些添加剂等组成。 主盐是指进行沉积的金属离子盐, 主盐
对镀层的影响体现在:主盐浓度高,镀层较粗糙,但允许的电流密度
大 ; 主盐浓度低,允许通过的电流密度小,影响沉积速度。一般电镀
过程要求在高的主盐浓度下进行, 考虑到溶解度等因素, 常用的主盐
是硫酸盐或氯化物。导电盐 ( 支持电解质〉的作用是增加电镀液的导
电能力,调节 ?只值,这样不仅可降低槽压、提高镀液的分散能力,
更重要的是某些导电盐的添加有助于改善镀液的物理化学性能和阳
极性能。
在单盐电解液中,镀层的结晶较为粗糙,但价廉、允许的电流密
度大。而加人络合剂的复盐电解液使金属离子的阴极还原极化得到了
提高,可得到的镀层细致、紧密、质量好,但成本较高。对于 Zn、
Cu、Cd、Ag、Au 等的电镀,常见的络合剂是氰化物 ; 但对于沖、等金
。
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属的电镀, 因这些元素的水合离子电沉积时极化较大, 因而可不必添
加络合剂。在复盐电解液的电镀过程中,因氰化物的毒性较大,无氰
电镀成为发展方向。
添加剂在镀液中不能改变溶液性质, 但却能显著地改善镀层的性
能。添加剂对镀层的影响体现在添加剂能吸附于电极表面, 可改变电
极一溶液界面双电层的结构,达到提高阴 极还原过程过电位、改变
丁曲线斜率等目的。 添加剂的选择是经验性的, 添加剂可以是无机物
或有机物,通常指的添加剂有光亮剂、整平剂、润湿剂和活化剂等。
镀液的性能可以影响镀层的质量, 而镀液是由溶质和溶剂组成的, 溶
剂对镀层质量也应有一定影响。 电镀液溶剂必须具有下列性质: ①电
解质在其中是可溶的 ; ②具有较高的介电常数,使溶解的电解质完全
或大部分电离成离子。 电镀中用的溶剂有水、 有机溶剂和熔盐体系等。
1. 电镀工艺因素对镀层影响
电流密度对镀层的影响主要体现在电流密度大, 电镀同样厚度的
镀层所需时间短,可提高生产效率,同时,电流密度大,形成的晶核
数增加,镀层结晶细而紧密, 但电流密度太大会出现枝状晶体和针孔
等。对于电镀过程,电流密度存在一个最适宜范围。
电解液温度对镀层的影响体现在温度升髙, 能提高阴极和阳极电
流效率,消除阳极钝化,增加盐的溶解度和溶液导电能力,降低浓差
极化和电化学极化。 但温度太高, 结晶生长的速度超过了形成结晶活
性的生长点,因而导致形成粗晶和孔隙较多的镀层。
电解液的搅拌有利于减少浓差极化,
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