磁控和辉光放电.pptVIP

磁控溅射镀膜 单:物理喾院 胜名:晴 2012.5.18  随着材料科学的发展,近年来薄膜材料作为一种重 要的分支从过去体材料一统天下的局面脱颖而出。如 过去需要纵多体材料组合才能实现的功能,现在仅需 几块电路板或一块集成电路板就能完成。薄膜技术将 各种不同的材料灵活的复合在一起,具有异特性的复 杂材料体系,发挥每种材料各自的优势,避免优单 材料局限性。薄膜的应用越来越广,因此薄膜的制备 研究非常重要 薄膜的制备方法有物理、化学法。物理法指在真空 下,采用各种物理方法将固态镀膜材料转化为原子、 分子或离子的气相物质后再沉积于基体表面,从而形 成固体薄膜的一类薄膜制备方法。由于粒子发射可以 采用不同的方式,因而物理气相沉积技术可以呈现出 不同的形式,主要有真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子 镀膜,束流沉积等几种形式。  铖射镀膜: 具有足够高能量的粒子轰击固体(称为靶)表面使 其中的原子或分子发射出来。实际的过程是入射粒 子通过与靶材碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶 原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程,在这种 级联过程中,某些表面附近的靶原子获得向外运动 的足够动量,离开靶被溅射出来。这些溅射出来的 原子或分子带有一定的动能,沿着一定方向射向衬 底,从而实现薄膜沉积。  基片 Ar○→ 靶材 V(0)  一般的溅射钛膜方法