CMOS集成电路版图TannerL Edit设计入门.pptVIP

2019 年 2 月 15 日星期五 ( 三 ) 本课程所用规则的设计 -3 ? 铝条最小宽度 10um Metal1 Minimum Width =10um ? 铝条间距最小 10um Metal1 to Metal1 Spacing =10um ? 铝条对铝引线孔最小覆盖 2.5um Metal1 surround Contact=2.5um ? 引线孔距扩散区最小距离 5um Metal1 Contact to P-Select spacing =5um Metal1 Contact to N-Select spacing =5um 2019 年 2 月 15 日星期五 ( 三 ) 本课程所用规则的设计 -4 ? 铝引线孔距多晶硅最小距离 5um Metal1 Contact to Poly spacing =5um ? 多晶硅对引线孔的最小覆盖 2.5um Poly surround Metal Contact = 2.5um ? 压焊点 100*100um*um, 压焊点距电路 30um 2019 年 2 月 15 日星期五 L-Edit 画版图的详细步骤 1 、将屏幕改为 256 色，打开 L-Edit 程序，系统自动将 工作文件命名为 L ayout1.sdb ； 2 、选择 save as 命令，将文件另存为新文件名； 3 、 取代设定：选择 Replace setup 命令，进行设计规 则取代 ( 如果用其他设计规则，可以输入设计规则 ) ； 4 、编辑组件，进行环境设定：选择 setup — design 命 令对单位格点等进行设定； 5 、选取图层 ; 6 、选择绘图形状 ; 2019 年 2 月 15 日星期五 7 、设计规则检查 ; 8 、检查错误：选择 file — open 命令打开错 误记录文件 cell0.drc 进行查看错误 , 利用 tools — clear error layer 命令可清除错误 符号 ; 9 、移动对象：利用 alt 加鼠标拖曳的方式 修改对象的大小 ; 2019 年 2 月 15 日星期五 1 、将屏幕改为 256 色，打开 L-Edit 程序，系统自 动将工作文件命名为 Layout1.tdb 并显示在窗口的 标题栏上。 2019 年 2 月 15 日星期五 2 、选择 save as 命令，将文件另存为新文件名； 2019 年 2 月 15 日星期五 3 、 取代设定：选择 Replace setup 命令，进行设 计规则取代； 2019 年 2 月 15 日星期五 4 、编辑组件，进行环境设定：选择 setup — design 命令对单位格点等进行设定； 2019 年 2 月 15 日星期五 2019 年 2 月 15 日星期五 5 、选取图层： 2019 年 2 月 15 日星期五 6 、选择绘图形状： 2019 年 2 月 15 日星期五 7 、设计规则检查： 设计规则检查 2019 年 2 月 15 日星期五 2019 年 2 月 15 日星期五 8 、检查错误：选择 file — open 命令打开错误记 录文件 cell0.drc 进行查看错误 , 利用 tools — clear error layer 命令可清除错误符号 ; 2019 年 2 月 15 日星期五 9 、移动对象：利用 alt 加鼠标拖曳的方式修改对 象的大小 ; 2019 年 2 月 15 日星期五 PMOS 版图举例 简单 PMOS 的版图 2019 年 2 月 15 日星期五 画 PMOS 版图的详细步骤： 1 、将屏幕改为 256 色，打开 L-Edit 程序，系统自动将 工作文件命名为 L ayout1.sdb ； 2 、选择 save as 命令，将文件另存为新文件名； 3 、 取代设定：选择 Replace setup 命令，进行设计规 则取代； 4 、编辑组件，进行环境设定：选择 setup — design 命 令对单位格点等进行设定； 5 、选取图层：在左边有个图层面板，可以选择要药 绘制的图层； 6 、绘制 N Well ： L-Edit 编辑环境假设是 P 衬底， 所以可以直接 绘制 N Well 区域； 2019 年 2 月 15 日星期五 7 、绘制 Active 图层，即