2.5.2 微通道板结构及增益原理.pdf

2.5 光纤面板与微通道板 2.5.2 微通道板的结构与增益原理 微通道板的结构与增益原理 微通道板的结构和增益原理 Vc Va Vs ➢ 微通道板的构成及制备过程 ➢ 通道内的二次电子发射 ➢ 输出电流密度的饱和效应 ➢ 离子反馈 Vm1 Vm2 看一个视频 微通道板(MCP)的构成 微通道板是一块通道内壁具有良好二次电子发射性能的微 细空心通道玻璃纤维板。基本数据： ❖ 通道孔径约5~45μm ； ❖ 端面开口比约55%~80%； ❖ 通道长度与孔径比的典型值为40 。 ❖ 微通道板两端镀有镍层，形成输入输出电极； ❖ 微通道通常不垂直于断面，具有7~15度倾角； ❖ 通道内的表层具有半导电和较高的二次电子发射特性； ❖ 有时在微通道板输入端镀上约厚1~3nm的三氧化二铝膜， 用于防通道内的离子反馈，保护像管的光阴极，避免其 受离子冲击。 微通道板的制备过程 皮料玻璃一次化料→二次化料→机械拉管→退火→刻槽→清洗 芯料玻璃熔炼→制棒→退火→研磨、抛光→刻槽→清洗 实体边玻璃熔炼→制棒→退火→研磨、抛光→刻槽→清洗 拉单丝→排复丝棒→拉复丝→选复丝→排板(排屏)→压板→切片→ 滚圆→倒边磨、抛→清洗→检验→清洗→腐蚀→清洗→烘干→氢还 原→镀电极→检验→测试→包装→与制管工艺兼容性试验 有缘学习更多+谓ygd3076考证资料或关注桃报：奉献教育（店铺） 微通道板的制备过程 标准MCP(左)和扩口的高性能MCP(右)的SEM图 微通道板的结构和增益原理 Vc Va Vs ➢ 微通道板的构成及制备过程 ➢ 通道内的二次电子发射 ➢ 输出电流密度的饱和效应 ➢ 离子反馈 Vm1 Vm2 通道内的二次电子发射 ❖ 二次电子发射：当高速电子入射到固体表层，连续与体内电子碰撞 使电子受激而逸出表面的过程称为二次电子发射。其出射的电子数 与入射电子数之比定义为二次电子发射系数δ(或二次电子倍增系数) ❖ 二次电子发射系数是入射电子加速电位和入射角的函数 通道内的二次电子发射 ❖ 微通道板入射端对着光电阴极，位于电子光学系统像面上，出口端 对着荧光屏； ❖ 入射电子在通道内连续倍增，直至从通道出口端出射为止； ❖ 通道板的各通道彼此隔离，因此它可以将二维分布的电子流对应地 增强，从而实现电子图像增强。 有缘学习更多+谓ygd3076考证资料或关注桃报：奉献教育（店铺） 微通道板的结构和增益原理 Vc ➢ 微通道板的构成 Va Vs ➢ 通道内的二次电子发射 ➢ 输出电流密度的饱和效应 ➢ 离子反馈 Vm1 Vm2 输出电流密度的饱和效应 输入电流密度增大到一定程度后，输出电流不再随输入电流增加而增 加，这一最大的输出电流密度称为微通道板的饱和电流密度。 ◆ 饱和效应可以自行恢复 ◆ 且只限于每个通道而不影响临近通道。 ◆ 微通道板的自饱和效应使像管具有防强光特性，保护荧光屏不致于 灼伤损坏。 ◆ 自饱和效应的原因－ ➢ 连续工作时的通道壁电阻效应 ➢ 脉冲工作时的通道壁充电效应 ➢ 空间电荷效应