抛光液-临汾博利士纳米材料有限公司.pptVIP

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2020-10-08 发布于浙江
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临汾博利士纳米材料有限公司基本原理是在一定的压力及抛光液存在下让待抛光件与抛光垫作相对运动，借助抛光液中的磨粒对加工表面进行磨损，同时利用抛光液中氧化腐蚀剂对表面进行化学腐蚀作用来完成对工件表面材料去除，来获得光洁表面。 1.1 化学机械抛光（CMP）原理 1.2 硅溶胶应用铸造业 -提高工件光洁度纺织业-减少断头造纸业 -增大暴光范围材料工业 -增加陶瓷承受压力建筑工业-防带电电子产业 -优良的分散性和粘接性硅溶胶粒径均一、分布均匀、形貌为球形的纳米颗粒 1.2 硅溶胶产品粒径减小 SEM图 1.3 抛光液应用集成电路 LED蓝宝石衬底智能终端设备金属件航空航海手机壳外观件抛光液硅片 1.3 抛光液产品不同添加剂不同磨料桶装抛光液产品打包氧化剂、表面活性剂、络合剂、螯合剂、抛光促进剂、缓蚀剂、抑菌剂、稳定剂等 1.4 博利士系列抛光液型号 APL-101 APL-102 APL-104 APL-107 AA-3 SS-1 H107 固含量 39-41 39-41 39-41 39-41 39-41 39-41 39-41 粒径 100-115 100-110 100-120 100-120 110-120 105-115 100-120 pH 9-11 9-11 9-11 9-11 9-11 9-11 9-11 密度 1.28-1.30 1.28-1.30 1.28-1.30 1.28-1.30 1.28-1.30 1.28-1.30 1.28-1.30 粘度 1-5 1-5 1-5 1-5 1-5 1-5 1-5 移除速率 3-4μm/h 5-6μm/h 4-5μm/h 2-3μm/h / / 5-6μm/h 技术特点适合精抛适合高温工艺稳定性强，循环性好适合A向蓝宝石适合铝合金抛光适合不锈钢抛光适合高稀释比