《第四章-溅射工艺》.pptVIP

第四章-溅射工艺;主要讲授内容;4-2 溅射工艺 ; 溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场作用下高速轰击阴极靶，使靶材中的原子（或分子）逸出而淀积到被镀衬底（或工件）的表面，形成所需要的薄膜。;?溅射镀膜的特点：;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?辉光放电;?溅射特性;?溅射特性－溅射阈值;?溅射特性;?溅射特性－溅射率;?溅射特性－溅射率;?溅射特性－溅射率;?溅射特性－溅射率;?溅射特性－溅射率;?溅射特性－溅射率;?溅射特性;?溅射特性- 溅射原子的能量和速度;?溅射特性;?溅射特性;?溅射特性;?溅射特性;?溅射特性;?溅射特性;?溅射镀膜过程;?溅射镀膜过程;?溅射镀膜过程;?溅射镀膜过程－溅射粒子的迁移过程;?溅射镀膜过程;?溅射特性;?溅射特性;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?溅射机理;?二极直流溅射;?二极直流溅射;?偏压溅射;?三级或四级溅射;?三级或四级溅射;?三级或四级溅射;?射频溅射;?射频溅射;?射频溅射;?磁控溅射;?磁控溅射－工作原理;?磁控溅射;?