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- 2020-11-17 发布于四川
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第九题 无机化工流程综合应用题
1.(2017·临汾二模)锗是重要的半导体材料,应用于航空航天测控、光纤通讯等领域。一种提纯二氧化锗粗品(主要含GeO2、As2O3)的工艺如下:
已知:GeCl4的熔点为-49.5 ℃,AsCl3与GeCl4的沸点分别为130.2 ℃、84 ℃。
(1)锗在元素周期表中的位置为___________________________________________。
(2)“碱浸”过程中反应的化学方程式为
________________________________________________________________________。
(3)传统的提纯方法是将粗品直接加入盐酸中蒸馏,其缺点是________________________________。
(4)“蒸馏”过程中反应的化学方程式为
________________________________________________________________________。
(5)“水解”操作时保持较低温度有利于提高产率,其最可能的原因是______________________________________(写一条即可)。
(6)若1 t二氧化锗粗品(含杂质30%)经提纯得0.724 t的高纯二氧化锗产品,则杂质脱除率为________。
2.某化工厂以软锰矿、
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