薄膜制备技术pvd知识讲解.pptVIP

薄膜制备技术PVD;2. 薄膜分类 ;（4）组成 ; 薄膜材料与器件结合，成为电子、信息、传感器、光学、太阳能等技术的核心基础。 ;14.1.2 薄膜的制备方法 ;代表性的制备方法按物理、化学角度来分，有： ; 利用蒸发、溅射沉积或复合的技术，不涉及到化学反应,薄膜生长过程基本是一个物理过程,以PVD为代表。 ;真空蒸发镀膜（包括脉冲激光沉积、分子束外延） 溅射镀膜 （包括RF，DC，磁控） 离子成膜; ;14.2.2 真空蒸发镀膜;1、操作方便，沉积参数易于控制； 2、制膜纯度高，可用于薄膜性质研究； 3、可在电镜监测下镀膜，对薄膜生长过程和生长机理进行研究； 4、膜沉积速率快，可以多块同时蒸镀； 5、沉积温度较高，膜与基片的结合强度不高。; 装置：真空系统、蒸发系统、基片撑架、挡板、监控系统;2. 工艺方法;2）电子束加热 ;3）高频感应加热 ;（2）对于化合物和合成材料，常用各种蒸发法和热壁法。 ;;4）热壁法： ;5）分子束外延(MBE) ;外延是指单晶衬底上形成单晶结构的薄膜，而且薄膜的晶体结构与取向和衬底的晶体结构和取向有关。外延方法很多，有气相外延法、液相外延法、真空蒸发外延法、溅射外延法等。. ;原 理： 在超高真空条件下，将各组成元素的分子束流以一个个分子的形式喷射到衬底表面，在适当的温度下外延沉积成膜。;