薄膜物理气相沉积资料讲解.pptVIP

薄膜物理气相沉积;; 利用大电流通过一个连接着靶材材料的电阻器,将产生非常高的温度,利用这个高温来升华靶材材料。 通常使用钨(Tm=3380℃),钽Ta(Tm=2980℃), 钼Mo(Tm=2630℃) ,高熔点又能产生高热的金属,做成电阻器。 ;电阻器可以依被镀物工件形状,摆放方式,位置,腔体大小,旋转方式,而作成不同的形状。; 1.避免被蒸发物质与加热材料之间发生化学反应的可能性，可以考虑使 用表面涂有一层Al2O3的加热体； 2.防止被加热物质的放气过程可能引起的物质飞溅。;1.电阻式蒸镀机设??价格便宜,构造简单容易维护。2.靶材可以依需要,做成各种的形状。 ;; 电子束蒸发设备的核心是偏转电子枪，偏转电子枪是利用具有一定速度的带点粒子在均匀磁场中受力做圆周运动这一原理设计而成的。其结构由两部分组成：一是电子枪用来射高速运动的电子；二是使电子做圆周运动的均匀磁场。 ; 电子束的绝大部分能量要被坩埚的水冷系统带走，因而其热效率较低。另 外，过高的加热功率也会对整个薄膜沉积系统形成较强的热辐射。; 电弧蒸发装置也具有能够避免电阻加热材料或坩埚材料的污染，加热温度较高的特点，特别适用于熔点高，同时具有一定导电性的难熔金属、石墨等的蒸发。同时，这一方法所用的设备比电子束