碳化硅单晶衬底精密加工技术研究.docxVIP

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  • 2020-11-23 发布于天津
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碳化硅单晶衬底精密加工技术研究赵岁花梁津王家鹏衣忠波摘要介绍了碳化硅材料的结构和特性分析了材料的应用领域及发展趋势研究了其单晶衬底精密加工技术该研究对提高单晶衬底加工表面质量具有指导意义期刊名称电子工业专用设备年卷期总页数关键词单晶衬底精密加工作为第三代半导体材料的核心之一是半导体界公认的一种未来的材料是世纪有广阔发展潜力的新型半导体材料与相比具有禁带宽导热率高电子饱和漂移速率大化学稳定性好等优点被用于制作高温高频抗辐射大功率和高密度集成电子器件利用其宽禁带的特性还可以制作蓝绿光和紫外光的发光器

碳化硅单晶衬底精密加工技术研究 赵岁花,梁津,王家鹏,衣忠波 【摘要】介绍了碳化硅⑸C)材料的结构和特性,分析了 SiC材料的应用领域及 发展趋势,研究了其单晶衬底精密加工技术,该研究对提高SiC单晶衬底加工 表面质量具有指导意义。 【期刊名称】电子工业专用设备 【年(卷),期】2018(000)003 【总页数】4 【关键词】SiC单晶;衬底;精密加工 SiC作为第三代半导体材料的核心之一,是半导体界公认的一种未来的材 料Z是21世纪有广阔发展潜力的新型半导体材料[l]o与Si、GaAS相比, 具有禁带宽、导热率高、电子饱和漂移速率大、化学稳定性好等优点,被用于 制作高温、高频、抗辐射、大功

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