xps方法原理与仪器分析.ppt

XPS分析方法原理 XPS仪器基本结构 XPS主要分析技术;;光电子的特征性 当一束光子辐照到样品表面时，光子可以被样品中某一元素的原子轨道上的电子所吸收→电子脱离原子核的束缚，以一定的动能从原子内部发射出来→自由的光电子；对于特定的单色激发源和特定的原子轨道，其光电子的能量是特征的→其光电子的能量仅与元素的种类和所电离激发的原子轨道有关；;Binding energy (eV);一、固体样品：样品尺寸的限制—真空隔离要求的传递杆技术；注意表面的成分的状态的保护； 二、粉体样品：双面胶???固定；压片法—加热，表面反应、表面处理等动态分析要求 ； 三、特殊样品预处理： 1、含挥发性物质的样品—加热或溶剂清洗； 2、表面有机污染的样品：有机溶剂清洗—除有机溶剂； 3、带有微弱磁性的样品：退磁处理；禁止带有磁性样品进入分析室； 四、绝缘样品和导电性不好的样品：仪器必须进行样品荷电校准；;;一、X射线激发源：要求强度大、单色性好—激发源做单色化处理；大面积源-Al/Mg双阳极靶；微聚焦源—单色源Al靶； 二、快速进样室：气体隔离室技术—预处理室：加热、蒸镀、刻蚀； 三、能量分析器： 电子传输率；能量分辨率；CMA /SDA—在高分辨下有较高的灵敏度；减速—聚焦透镜→加大多功能能谱仪空间；浸入式磁透镜； 四、检测器：数据采集—脉冲计数方法→电子倍增器+单粒子计数器；位置灵敏检测器（P