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氮化镣(GaN)技术由于其出色的开关特性和不断提升的品质,近期逐渐得到了电力转换应用的青睐。具有低寄生 电容和零反向恢复的安全 GaN可实现更高的开关频率和效率,从而为全新应用和拓扑选项打开了大门。连续传导 模式(CCM)图腾柱PFC就是一个得益于 GaN^点的拓扑。与通常使用的双升压无桥 PFC拓扑相比,CCM?腾柱无桥
PFC能够使半导体开关和升压电感器的数量减半,同时又能将峰值效率推升到 95咐上。本文分析了 AC交叉区域
内出现电流尖峰的根本原因,并给出了相应的解决方案。一个 750W图腾柱PFC原型机被构造成具有集成栅极驱动
器的安全GaN并且展示出性能方面的提升。 关键字一GaN PFC;图腾柱;数字控制 I.简介 当按下智能手机上的一个按钮时,这个手机会触发一个巨大的通信网络,并且连接到数千英里之外的数据中心。 承载通信数据时的功耗是不可见的,而又大大超过了人们的想象。世界信息通信技术 (ICT)生态系统的总体功耗
正在接近全球发电量的 10% [1]。单单一个数据中心,比如说位于北卡罗来纳州的脸谱公司的数据中心,耗电量即 达到40MW另外还有两个位于美国内华达州和中国重庆的 200MW数据中心正在建设当中。随着数据存储和通信网
络的快速增长,持续运行电力系统的效率变得越来越重要。现在比以前任何时候都需要对效率进行空前的改进与 提升。 几乎所有ICT生态系统的能耗都转换自 AC AC输入首先被整流,然后被升压至一个预稳压电平。下游的 DC/DC专
换器将电压转换为一个隔离式 48V或24V电压,作为电信无线系统的电源,以及存储器和处理器的内核电压。随
着MOSFE技术的兴起和发展,电力转换效率在过去三十年间得到大幅提升。自 2007年生效以来,Energy Star (能源之星)80 PLUS效率评价技术规范[2] 将针对AC/DC整流器的效率等级从黄金级增加到更高的白金级,并 且不断提高到钛金级。然而,由于 MOSFET勺性能限制,以及与钛金级效率要求有关的重大设计挑战,效率的改进
与提升正在变慢。为了达到 96%勺钛金级峰值效率,对于高压线路来说,功率因数校正 (PFC)电路效率的预算效
率应该达到98.5%及以上,对于低压电路,这个值应该不低于 96.4%。发展前景最好的拓扑是无桥 PFC电路,它没
有全波AC整流器桥,并因此降低了相关的传导损耗。 [3]对于不同无桥PFC的性能评价进行了很好的总结。这个
性能评价的前提是,所使用的有源开关器件为 MOSFE或IGBT。大多数钛金级 AC/DC整流器设计使用图6中所示的
拓扑[3],由两个电路升压组成。每个升压电路在满功率下额定运行,不过只在一半 AC线路周期内运行,而在另
外周期内处于空闲状态。这样的话, PFC转换器以材料和功率密度为代价实现了一个比较高的效率值 [4]。通常情
况下,由于MOSFE林二极管的缓慢反向恢复,一个图腾柱 PFC无法在连续传导模式(CCM)下高效运行。然而,
它能够在电压开关为零 (ZVS)的变换模式下实现出色的效率值。数篇论文中已经提到, PFC效率可以达到98.5%-
99%对于高功率应用来说,多个图腾柱升压电路可以交错在一起,以提高功率水平,并且减少输入电流纹波。然 而,这个方法的缺点就是控制复杂,并且驱动器和零电流检测电路的成本较高。此外,因此而增加的功率组件数 量会产生一个低功率密度设计。因此,这个简单的图腾柱电路需要高效运行在 CCMT,以实现高功率区域,并且
在轻负载时切换至具有 ZVS的TM通过使用这个方法,可以同时实现高效率和高功率密度。作为一款新兴半导体 开关,氮化镣(GaN) FET正在逐渐走向成熟,并且使此类应用成为可能。 Transphorm公司已经在 APEC 2013上展
示了一款峰值效率达到 99%勺基于GaN的图腾柱CCM PFC [9]。 [10-12] 还介绍了 GaN^件出色的开关特性,以及 应用优势。为了更好地理解 GaN特性,并且进一步解决应用中存在的顾虑,特别是开关频率和交叉电流尖峰问题,
这篇文章讨论了 : II. GaN 技术概述、III. 图腾柱CCM PF驻制、IV.实验和V.结论。
II. GaN 技术概述
GaNM电子迁移率晶体管 (HEMT)首次问世是在2004年。HEMT吉构表现出非同寻常的高电子迁移率,这个值所表 示的是一个 AlGaN和GaN异构表面附近的二维电子气 (2DEG)。正因如此,GaN HEM他被称为异构 FET (HFET),
或者简单地称为 FE1基本GaN晶体管结构如图1中所示[13]。源电极和漏电极穿透 AlGaN层的顶部,并且接触 到下面的2DEG这就在源极和漏极之间形成一个低阻抗路径,而也就自然而然地形成了一个 D模式器件。通过将
负
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