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半导体厂气体供应系统的规划与设计
半导体厂气体供应系统的规划与设计
摘要
摘要
本文主要讨论半导体厂气体供应系统的规划与设计,其内容包括大宗气体 (Bulk Gases,如 N2、H2、O2、等),特殊气
本文主要讨论半导体厂气体供应系统的规划与设计,其内容包括大宗气体 (Bulk Gases,如 N2、H2、O2、等),特殊气
体 (Special Gases,如 SiH4、PH3 等)及气体侦测监控系统相关规范的介绍 [1],以及其储存设备的位置、空间及供应管
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路、流程的设计规划,并探讨供气系统所涉及的相关法规及标准,以及其安全性的考量原则。
路、流程的设计规划,并探讨供气系统所涉及的相关法规及标准,以及其安全性的考量原则。
:气体供应、大宗气体(Bulk Gases)、特殊气体 (Special Gases)、气体监控
关键字:气体供应、大宗气体(Bulk Gases)、特殊气体 (Special Gases)、气体监控
关键字
前言:
前言:
近年来半导体工业发展快速,半导体制程更是日趋复杂,而在半导体厂中所使用的制程化学气体欲具有向导的危险
近年来半导体工业发展快速,半导体制程更是日趋复杂,而在半导体厂中所使用的制程化学气体欲具有向导的危险
性 (如 SiH4 等),任何疏失都有可能造成人员严重的伤亡与设备重大的损失,因此如何将这些高危险气体安全地输送到
性 (如 SiH4 等),任何疏失都有可能造成人员严重的伤亡与设备重大的损失,因此如何将这些高危险气体安全地输送到
制程机台上使用,将是半导体厂安全中重要的考量因素;本文之 目的即在探讨气体供应系统整体性与原则性的规划设
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计,而在实际建厂时仍需依各厂的实际情况进行规划设计,以期达到较佳的实用性与安全性。
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半导体厂的供气系统一般可区分为大宗气体和特殊气体,其中
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大宗气体通常是以室外的大型桶槽或桶车系统供应为主,当制程有
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