曝光原理与曝光机介绍(高启清)培训资料.pptVIP

防焊曝光機 UVE-7K 7KW金屬鹵化物燈 有效範圍: 810 x 610 均勻度:85% Mylar 對玻璃雙檯框 人機界面操作 檯框獨立能量控制 故障點顯示 檯面自動電磁鎖 真空度不足時不曝光 7 KW 曝光機燈管水套結構 7 KW 曝光機定期保養項目 手動曝光機操作畫面 平行光系統 散射光對曝光影響 平行半角與斜射角 平行光曝光系統 平行反射鏡(Collimation Mirror) 曝光照射面(Exposure Surface) 反射鏡 (Reflection Mirror) 點光源短弧燈 (Short Arc Lamp) 橢圓集光器(Collector) 冷鏡 (Dichroic Mirror) 積光器(Integrator) 平行光源: 5KW汞氙短弧燈 平行半角(CHA): 1.5? 斜射角(DA) 1? 平行光曝光燈源-汞氙短弧燈 G line: 436 nm H line: 405 nm I line: 365 nm 光阻聚合365nm 平行光曝光機的考量因素 平行光曝光 半角、斜射角 強度 均勻度 能量控制 薄板傳送 對位精度 吸真空 底片漲縮 溫度控制 濕度控制 金屬、玻璃底片 無塵控制 Class 1000→Class 100 正壓設計 靜電消除 志聖平行光曝光機 半自動型 UVE-5KC 自動CCD對位型 UVOA-5KD 自動內層型 U