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2-1. P N 结空间电荷区边界分别为
导出 表达式。给
p (x )
n n
解:在 x x
D ,又因为
V 作用下, PN 结 N 侧
FP
EFP
4 10 cm
,在室温下计算:
( с零) 偏压下最大内建电场为
2–6.推导出线性缓变 PN 结的下列表示式: (a)电场( b)电势分布( c)耗尽层宽度( d)
ax 积分为
时 , N N ax N
2-7.推导出 N N 结(常称为高低结)内建电势表达式。
+
),于是 区中电子向
N 区扩散,在结
= V ln
V ln
2-8.(a)绘出图 2-6a 中
尽层的宽度和 VR 的关系曲线与单边突变结的情况相符。
a
的情况,重复( )并证明这样的结在小
2-9. 对于图 2-6(b)的情况, 重温习题 2-8。2–10.(a)PN 结的空穴注射效率定义为在 x 0
处的 I / I ,证明此效率可写成
即 受主杂质浓度远大与施主杂质浓度。
2-11.长 PN 结二极管处于反偏压状态,求:
和 p ( x) ,并画出它们的分布示意图。
(1)解扩散方程求少子分布 n (x)
(3)证明反向电流 I
I 为 PN 结扩散区内的载流子产生电流。
0
代入( 1):
这是 N 区少子空穴扩散区内的贮存电荷,
Q 0
说明贮存电荷是负的,这是反向
p
Q 0
说明贮存电荷是正的(电子被抽取,出现正的电离施
n
L ,L 的扩散区内,则
U 0 ,可见 G= -U 0 ,则空穴扩散区内少子产生率为
可见, PN 结反向电流来源于扩散区内产生的非平衡载流子。
2-12. 若 PN 结边界条件为 x w 处 p p , x
n n w
。其中 和 分别与
po p
p (x) 以及 I ( x) 、 I (x) 的表达式。
L 与 L 具有相同的数量级,求 n (x)、
)( 令= A), x = -x
p
L 即长 PN 结:
(此即长 PN 结中少子分布)
若取 x = 0
(x+x ) Ln
n - n = n (e -1)(1+
(取 -x = 0 )
p
2–13.在 P N 结二极管中,
qS p A( S 为表面复
n
解:连续方程 D
由边界条件 p 0 p e
qS p A 得
讨论 S=0:x=0, pn p (e
X= W , p
N 10 cm 以及
(a)求在 V 1
和5V 时的二极管的电容。
(注: (密耳)为长度单位, 1
10 10
(b) 当谐振频率和控制电压有线性关系时
4.38 10
2-16.用二极管恢复法测量 P N 二极管空穴寿命。
2mA,在具有 0.1ns上升时间的示波器上测得
10ns上升时间较慢的示波器,
2-17. P N 结杂质分布 N =常数, N
N e ,导出
解:设 x = x 为 N 侧 SCR 的边界,对于 P N
结,SCR 的宽度为 W x L
(0) 且取 (x ) 0
,则
n
二极管导纳,假设在 x w
x W(表面复合速度无穷大)
n
0.5V 的正向电压下,当温度从 25 C 上升到 150 C 时,计算
电流增加的倍数。假设 I I e
,且 每
10 C 增加一倍。
eVq
2–20.采用电容测试仪在 1MHZ 测量 GaAs p n 结二极管的电容反偏压关系。 下面是
12.4,11.6,11.1,10.5,10.1,9.8。计算 和 N 。二极管的面积为 4 10 cm 。
近似解为 ts
2–22.在硅中当最大电场接近 10 V / cm 时发生齐纳击穿。假设在 侧
11.9 8.85 10 F/cm 10 V /cm
科教兴国
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