露光(黄的光)制程介绍.pptVIP

pretonic 微影製程簡介(黃光 Photolithography 2. STRUCTURE 2014.04 Innovative Display Solution Provider  何謂黃光 pretonic 可見光波長:電磁波380~780nm(一般人眼可見光400~700nm) 光阻可被反應範圍∶500nm以下(見下頁說明) 可見光範圍 380nm 光阻可反應之範← 光阻不被反應 顏色名 波長 紫 人員作業安全 450-495nm -----495=570nm 黃光-最佳作業光源 570-590nm 橙色 590-620nm ovider  光阻吸收光譜 Coretronic 以乾膜吸收為例 乾膜-1 乾膜-2 最易感光範圍310 最易感光範图-360 安全範-450nm 全範-460nm 乾膜-3 簡單來說 最易感光範圈310·355m全範470m 光阻於波長500nm以下會產生 反應( Cross-Link) nnovative Display Solution Provider  微影製程( Photolithography) Coretronic 微景技術:將設計好的圖案從光罩上轉印到材料表面的光阻上時所使用的技術 壓膜 以負型光阻為例 等於印刷 曝光 油墨or可剝 曝光 顯影 影 蝕刻 蚀刻 蝕刻 去膜 去膜 Metal pattern成形  Dry Film製作優势c pretonic 印刷製作 線路曲折 線寬較大(80um) Dry film製作 線路筆直 線寬較細(35um) 線路呈現 以印刷製作線路·因印刷易有溢膠現象’導致線路呈現曲折狀∶且因網板印刷限 制,線路無法製作 Fine pitch(50um以下)之 Pattern 以 Dry Film製作線路·因 Dry Film高解析之特性· Fine pitch之 Pattern製作容易呈現 且利用光罩曝光製作線路,可輕易呈現筆直狀態 nnovative Display Solution Provider  光阻( Photo resist)種類介紹 pretonic 光阻成分:溶劑、樹脂、光活性化合物。 溶劑-可讓光阻保持溶液狀態使光阻可以旋誧方式塗佈在基板上 樹脂-提供光阻的粘著性丶抗蝕刻能力’並可被鹼性顯影液分解。 光活性化合物—對特殊光線具有靈敏性’又稱為感光劑 光阻種類(依特性):正光阻(曝光處裂解) 負光阻√(曝光處聚合) 正阻種類(依狀態):液態光阻 乾膜√ 正型光阻 負型光阻 Original 長鏈(壯) 曝光 (照光處) 裂解 聚合( Cross Link) 曝光處一洗掉光阻 曝光處一光阻留著 nnovative Display Solution Provider  正負光阻 Pattern說明c pretonic 光阻 基板 光罩/底片 紫外線 光阻 曝光 負光阻 基板 顯影後 正光阻 正光阻侵點:高解析(解析能力3um)、負光阻(乾膜解析約15um) 負光阻優點:便宜  底片製作說明-RD丶繪圖必知 pretonic 底片組成:PET+藥膜 底片構造 底片製作流程:快速記憶≯PET上正型光阻+曝光+顯影 藥膜 PET→塗藥膜(正型光阻)→雷射繪片(曝光)→顯影→乾燥 PET 正且 YLO出圖 For正型光阻、印刷製程 負 For負型光阻(現行黃光製程) Innovative Display Solution Provider  底片發包專用術語--RD、繪圖必知 pretonic 製程 正/負片解析度(dpi)藥膜上/下字正反價格(元/張) 印刷 8000 字正 原黄光 負片 40000 膜下 字正 1800 負片 40000 膜下 字正 1800 負片 8000 膜下 字正 800 底片構造 正/負片一視光阻型式決定(正型開正片、負型開負片) 藥膜 2.解析度一視線路解析決定(50um以下÷40000dpi) PET (50-150um→25000dp) (150um以上→8000dp) 3.藥膜上下一視曝光底片與基材接觸面而定 nnovative Display Solution  乾膜保存期限 pretonic 乾膜保存期限與儲存溫度 2 STRUCTURE ==== 以30℃/90%為例,乾 膜儲存時間僅2.5天 10 )RY-321 乾膜保存最佳溫度5~10℃·保存時間可達100天。 ≯乾膜適於